ระยะไมโครสโกปที่ทําความร้อนด้วยความแม่นยํา ความมั่นคง ± 0,1 °C ระยะ 1000 °C และอัตราการทําความร้อน 50 °C/นาที

ขั้นตอนการทำความร้อนที่อุณหภูมิสูงพร้อมการควบคุมที่แม่นยำสูงถึง 1,000°C และตัวยึดตัวอย่างเซรามิกสำหรับการสังเกตทางโลหะวิทยาและรามัน

GoGo H1000 คือเวทีการให้ความร้อนด้วยกล้องจุลทรรศน์ที่ได้รับการออกแบบทางวิศวกรรมอย่างแม่นยำ ซึ่งออกแบบมาเพื่อการสังเกตและการวิเคราะห์ในแหล่งกำเนิดที่เชื่อถือได้ภายใต้อุณหภูมิสูง สามารถทำงานได้จากอุณหภูมิห้องสูงถึง 1,000°C โดยมีเสถียรภาพเป็นพิเศษที่ ±0.1°C ขั้นตอนนี้เป็นเครื่องมือสำคัญสำหรับการศึกษาวัสดุ การเปลี่ยนเฟส และกระบวนการไดนามิกแบบเรียลไทม์ภายใต้กล้องจุลทรรศน์ มีตัวยึดตัวอย่างเซรามิกที่ทนทานและช่องสังเกตการส่งผ่านข้อมูลสูงขนาดใหญ่ ทำให้เป็นโซลูชันอเนกประสงค์สำหรับการใช้งานทางวิทยาศาสตร์และอุตสาหกรรมที่หลากหลาย ระบบที่สมบูรณ์นี้ได้รับการควบคุมอย่างราบรื่นโดยแพลตฟอร์มซอฟต์แวร์ TNEX ที่ผสานรวมของเรา

ขั้นตอนการให้ความร้อนด้วยกล้องจุลทรรศน์แบบมืออาชีพนี้ถูกนำมาใช้อย่างมีประสิทธิภาพในตลาดที่มีการเติบโตทั่วโลก รวมถึงเอเชียตะวันออกเฉียงใต้ ตะวันออกกลาง รัสเซีย และแอฟริกา ให้บริการลูกค้าที่หลากหลายของมหาวิทยาลัย สถาบันวิจัยของรัฐบาลและเอกชน และบริษัทการผลิตที่มีเทคโนโลยีสูงที่เกี่ยวข้องกับวัสดุศาสตร์ โลหะวิทยา ธรณีวิทยา และการวิจัยและพัฒนาอิเล็กทรอนิกส์