H1500V-RG Microscopio de precisión Fase de calentamiento ± 0,1°C Estabilidad 1500°C Control PID al vacío para investigación de semiconductores

Datos del producto:
Lugar de origen: Porcelana
Nombre de la marca: GoGo
Certificación: ISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018
Número de modelo: H1500V-RG
Pago y Envío Términos:
Cantidad de orden mínima: 1 juego
Precio: USD 3000-8000 / Set
Detalles de empaquetado: Inserto de espuma a prueba de golpes con cartón corrugado de calidad de exportación, estuche de vuel
Tiempo de entrega: 15-30 días laborables
Condiciones de pago: T/T, carta de crédito, PayPal, Western Union
Capacidad de la fuente: 50 juegos por mes
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Información detallada

Rango de temperatura: TA ~ 1500°C Estabilidad de temperatura: ±0,1 °C
Método de calentamiento: Calentamiento por resistencia con control PID Tasa de calentamiento: Máximo 150°C/min, controlable
método de enfriamiento: Enfriador de recirculación, velocidad controlable Titular de la muestra: Cerámica, φ8 mm x 2 mm Tipo horno
Trayectoria óptica: Transmisión (orificio de acceso óptico de φ5 mm) Ambiente de la cámara: Alto vacío
Dimensiones: 165 mm x 78 mm x 32 mm Peso neto: 1,1 kilos
Software de control: Plataforma TNEX
Resaltar:

Estadio de calentamiento de microscopio de precisión con control PID

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Etapa de calentamiento del microscopio para la investigación de semiconductores

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Estadio de calentamiento del microscopio de vacío ±0

Descripción de producto

Etapa de calentamiento del microscopio con control de temperatura de precisión H1500V-RG con estabilidad de ±0.1°C

El GoGoEtapa de calentamiento del microscopio con control de temperatura de precisión H1500V-RGestablece el estándar de estabilidad térmica en microscopía de alta temperatura. Con líder en la industriaEstabilidad de temperatura ±0,1°CEn todo su rango de RT a 1500 °C, este sistema está diseñado para investigadores que no pueden comprometer la reproducibilidad de los datos.

Por qué es importante la estabilidad de ±0,1 °C

En la investigación de materiales avanzados, fluctuaciones de temperatura tan pequeñas como 0,5 °C pueden introducir una incertidumbre de medición significativa. El H1500V-RG elimina esta variable con un calentamiento de resistencia controlado por PID de precisión que mantieneEstabilidad de ±0,1°Cen cualquier punto de ajuste. Este nivel de control es fundamental para:

  • Caracterización de semiconductores:Las mediciones precisas de banda prohibida, los estudios de activación de dopantes y el recocido de película delgada requieren un control exacto de la temperatura donde incluso una desviación mínima invalida los resultados.
  • Análisis de transición de fase:La determinación precisa de las temperaturas de transición vítrea (Tg), los puntos de fusión (Tm) y las temperaturas de cristalización (Tc) depende de la estabilidad térmica en el punto de transición.
  • Experimentos de larga duración:Los experimentos isotérmicos de varias horas exigen un mantenimiento de temperatura sin deriva para obtener datos cinéticos válidos.
  • Análisis Térmico Diferencial:Comparar el comportamiento de la muestra con materiales de referencia requiere condiciones térmicas estables y sincronizadas.

Arquitectura de control de precisión

El H1500V-RG combina un portamuestras cerámico tipo horno para una distribución uniforme del calor con algoritmos PID avanzados en la plataforma de software TNEX. El enfriador de recirculación proporciona enfriamiento activo y controlable para un ciclo térmico preciso. Los investigadores pueden programar perfiles de temperatura complejos de varios pasos con segmentos de rampa, permanencia y ciclo, todos mantenidos dentro de la especificación de ±0,1 °C.

Estación de trabajo térmica de precisión completa

Cada sistema incluye la etapa de calentamiento H1500V-RG, un controlador de temperatura de precisión con lógica PID, un enfriador de recirculación, un software TNEX para la ejecución automatizada de perfiles y registro de datos, además de todos los cables y tuberías de conexión.

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