Stadio di riscaldamento del microscopio di precisione H1500V-RG Stabilità ±0,1°C Controllo PID del vuoto a 1500°C per la ricerca sui semiconduttori

Dettagli:
Luogo di origine: Cina
Marca: GoGo
Certificazione: ISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018
Numero di modello: H1500V-RG
Termini di pagamento e spedizione:
Quantità di ordine minimo: 1 set
Prezzo: USD 3000-8000 / Set
Imballaggi particolari: Inserto in schiuma antiurto con cartone ondulato per esportazione, disponibile flight case personali
Tempi di consegna: 15-30 giorni lavorativi
Termini di pagamento: T/T, L/C, PayPal, Western Union
Capacità di alimentazione: 50 set al mese
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Informazioni dettagliate

Intervallo di temperatura: RT ~ 1500°C Stabilità della temperatura: ±0,1°C
Metodo di riscaldamento: Riscaldamento a resistenza con controllo PID Velocità di riscaldamento: Massimo 150°C/min, controllabile
metodo di raffreddamento: Chiller a ricircolo, velocità controllabile Supporto campione: Ceramica, φ8 mm x 2 mm Tipo da forno
Percorso ottico: Trasmissione (foro di accesso ottico φ5 mm) Ambiente della Camera: Alto vuoto
Dimensioni: 165 mm x 78 mm x 32 mm Peso netto: 1,1 kg
Software di controllo: Piattaforma TNEX
Evidenziare:

Fase di riscaldamento per microscopi di precisione con controllo PID

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Fase di riscaldamento per microscopi per la ricerca sui semiconduttori

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Fase di riscaldamento per microscopi a vuoto ± 0

Descrizione di prodotto

H1500V-RG Fase di riscaldamento del microscopio controllato con temperatura di precisione con stabilità ± 0,1°C

Il GoGoH1500V-RG Fase di riscaldamento del microscopio a temperatura di precisione controllataIl nuovo modello, basato su un nuovo sistema di analisi, definisce lo standard per la stabilità termica nella microscopia ad alta temperatura.Stabilità a temperatura ± 0,1°CIl sistema è progettato per ricercatori che non possono scendere a compromessi sulla riproducibilità dei dati.

Perché ±0,1°C è importante per la stabilità

Nella ricerca avanzata sui materiali, fluttuazioni di temperatura minori di 0,5°C possono introdurre un'incertezza di misura significativa.L'H1500V-RG elimina questa variabile con il riscaldamento a resistenza controllato con precisione PID che mantieneStabilità ± 0,1°CQuesto livello di controllo è fondamentale per:

  • Caratterizzazione dei semiconduttori:Misurazioni precise del bandgap, studi di attivazione del dopante e ricottura di pellicole sottili richiedono un controllo della temperatura esatto in cui anche una piccola deriva invalida i risultati.
  • Analisi della transizione di fase:La determinazione accurata delle temperature di transizione del vetro (Tg), dei punti di fusione (Tm) e delle temperature di cristallizzazione (Tc) dipende dalla stabilità termica al punto di transizione.
  • Esperimenti di lunga durata:Gli esperimenti isotermici di più ore richiedono un mantenimento della temperatura senza deriva per dati cinetici validi.
  • Analisi termica differenziale:Per confrontare il comportamento del campione con i materiali di riferimento sono necessarie condizioni termiche sincronizzate e stabili.

Architettura di controllo di precisione

L'H1500V-RG combina un dispositivo di campionamento in ceramica di tipo forno per una distribuzione uniforme del calore con algoritmi PID avanzati nella piattaforma software TNEX.raffreddamento controllabile per un ciclo termico precisoI ricercatori possono programmare profili di temperatura complessi in più fasi con segmenti di rampa, abitazione e ciclo mantenuti entro le specifiche di ± 0,1 °C.

Stazione di lavoro termica di precisione completa

Ciascun sistema comprende la fase di riscaldamento H1500V-RG, un regolatore di temperatura di precisione con logica PID, un refrigeratore a ricircolo, un software TNEX per l'esecuzione automatica dei profili e la registrazione dei dati,più tutti i cavi di connessione e tubi.

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