H1500V-RG Stade de chauffage du microscope de précision ± 0,1°C Stabilité à 1500°C Contrôle PID sous vide pour la recherche sur les semi-conducteurs

Détails sur le produit:
Lieu d'origine: Chine
Nom de marque: GoGo
Certification: ISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018
Numéro de modèle: H1500V-RG
Conditions de paiement et expédition:
Quantité de commande min: 1 ensemble
Prix: USD 3000-8000 / Set
Détails d'emballage: Insert en mousse antichoc avec carton ondulé de qualité export, flight case personnalisé disponible
Délai de livraison: 15-30 jours ouvrables
Conditions de paiement: T/T, L/C, PayPal, Western Union
Capacité d'approvisionnement: 50 ensembles par mois
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Détail Infomation

Plage de température: TA ~ 1500°C Stabilité de la température: ±0,1 °C
Méthode de chauffage: Chauffage par résistance avec contrôle PID Taux de chauffage: Maximum 150°C/min, contrôlable
méthode de refroidissement: Refroidisseur à recirculation, débit contrôlable Titulaire de l'échantillon: Céramique, φ8 mm x 2 mm De type four
Chemin optique: Transmission (trou d'accès optique φ5 mm) Environnement de la Chambre: Vide poussé
Dimensions: 165 mm x 78 mm x 32 mm Poids net: 1,1kg
Logiciel de contrôle: Plateforme TNEX
Mettre en évidence:

Étape de chauffage au microscope de précision avec contrôle PID

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Étape de chauffage au microscope pour la recherche sur les semi-conducteurs

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Étape de chauffage au microscope sous vide ± 0

Description de produit

H1500V-RG Étape de chauffage du microscope contrôlé à température de précision avec stabilité ± 0,1°C

Le GoGoH1500V-RG Étape de chauffage du microscope à température de précision contrôléeElle établit la norme de stabilité thermique en microscopie à haute température.Stabilité à température ± 0,1°CDans l'ensemble de sa gamme RT à 1500°C, ce système est conçu pour les chercheurs qui ne peuvent pas faire de compromis sur la reproductibilité des données.

Pourquoi la stabilité est importante à ± 0,1°C

Dans la recherche avancée sur les matériaux, des fluctuations de température aussi faibles que 0,5°C peuvent entraîner une incertitude de mesure importante.Le H1500V-RG élimine cette variable grâce à un chauffage par résistance contrôlé par PID qui maintientStabilité à ± 0,1°CCe niveau de contrôle est essentiel pour:

  • Caractérisation des semi-conducteurs:Des mesures précises de l'écart de bande, des études d'activation du dopant et le recuit de film mince nécessitent un contrôle précis de la température où même une légère dérive invalide les résultats.
  • Analyse de la transition de phase:La détermination précise des températures de transition du verre (Tg), des points de fusion (Tm) et des températures de cristallisation (Tc) dépend de la stabilité thermique au point de transition.
  • Expériences de longue durée:Les expériences isothermes de plusieurs heures exigent un maintien de la température sans dérive pour des données cinétiques valides.
  • Analyse thermique différentielle:La comparaison du comportement de l'échantillon par rapport aux matériaux de référence nécessite des conditions thermiques synchronisées et stables.

Architecture de contrôle de précision

Le H1500V-RG combine un porte-échantillon en céramique de type fourneau pour une distribution uniforme de la chaleur avec des algorithmes PID avancés dans la plateforme logicielle TNEX.refroidissement contrôlable pour un cycle thermique précisLes chercheurs peuvent programmer des profils de température complexes en plusieurs étapes avec des segments de rampe, de résidence et de cycle, tous maintenus dans les limites de ± 0,1 °C.

Station de travail thermique de précision complète

Chaque système comprend la phase de chauffage H1500V-RG, un régulateur de température de précision avec logique PID, un refroidisseur à recirculation, un logiciel TNEX pour l'exécution automatisée des profils et l'enregistrement des données,plus tous les câbles de raccordement et tubes.

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