H1500V-RG Microscópio de precisão Fase de aquecimento ± 0,1°C Estabilidade 1500°C Controle PID a vácuo para pesquisa de semicondutores

Detalhes do produto:
Lugar de origem: China
Marca: GoGo
Certificação: ISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018
Número do modelo: H1500V-RG
Condições de Pagamento e Envio:
Quantidade de ordem mínima: 1 conjunto
Preço: USD 3000-8000 / Set
Detalhes da embalagem: Inserção de espuma à prova de choque com caixa corrugada de nível de exportação, estojo de voo perso
Tempo de entrega: 15-30 dias úteis
Termos de pagamento: T/T, L/C, PayPal, Western Union
Habilidade da fonte: 50 conjuntos por mês
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Informação detalhada

Faixa de temperatura: TA ~ 1500°C Estabilidade de temperatura: ±0,1°C
Método de aquecimento: Aquecimento por resistência com controle PID Taxa de aquecimento: Máximo 150°C/min, controlável
método de resfriamento: Chiller de recirculação, taxa controlável Suporte de amostra: Cerâmica, φ8mm x 2mm tipo forno
Trajeto ótico: Transmissão (orifício de acesso óptico de φ5mm) Ambiente de Câmara: Alto Vácuo
Dimensões: 165 mm x 78 mm x 32 mm Peso líquido: 1,1kg
Software de controle: Plataforma TNEX
Destacar:

Estágio de aquecimento de microscópio de precisão com controle PID

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Estágio de aquecimento de microscópio para pesquisa de semicondutores

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Estágio de aquecimento de microscópio a vácuo Estabilidade de ± 0

Descrição de produto

Estágio de aquecimento do microscópio com temperatura controlada de precisão H1500V-RG com estabilidade de ±0,1°C

O GoGoEstágio de aquecimento do microscópio com temperatura controlada de precisão H1500V-RGdefine o padrão para estabilidade térmica em microscopia de alta temperatura. Com líder do setorEstabilidade de temperatura de ±0,1°Cem toda a sua faixa de temperatura ambiente até 1.500°C, este sistema foi projetado para pesquisadores que não podem comprometer a reprodutibilidade dos dados.

Por que a estabilidade de ±0,1°C é importante

Na pesquisa de materiais avançados, flutuações de temperatura tão pequenas quanto 0,5°C podem introduzir incertezas significativas na medição. O H1500V-RG elimina esta variável com aquecimento de resistência controlado por PID de precisão que mantémEstabilidade de ±0,1°Cem qualquer ponto de ajuste. Este nível de controle é crítico para:

  • Caracterização de semicondutores:Medições precisas de bandgap, estudos de ativação de dopantes e recozimento de filme fino exigem controle exato de temperatura onde mesmo pequenos desvios invalidam os resultados.
  • Análise de Transição de Fase:A determinação precisa das temperaturas de transição vítrea (Tg), pontos de fusão (Tm) e temperaturas de cristalização (Tc) depende da estabilidade térmica no ponto de transição.
  • Experimentos de longa duração:Experimentos isotérmicos de várias horas exigem manutenção de temperatura livre de desvios para dados cinéticos válidos.
  • Análise Térmica Diferencial:Comparar o comportamento da amostra com materiais de referência requer condições térmicas estáveis ​​e sincronizadas.

Arquitetura de controle de precisão

O H1500V-RG combina um porta-amostras cerâmico tipo forno para distribuição uniforme de calor com algoritmos PID avançados na plataforma de software TNEX. O resfriador de recirculação fornece resfriamento ativo e controlável para ciclos térmicos precisos. Os pesquisadores podem programar perfis complexos de temperatura de várias etapas com segmentos de rampa, permanência e ciclo – todos mantidos dentro da especificação de ±0,1°C.

Estação de trabalho térmica de precisão completa

Cada sistema inclui o estágio de aquecimento H1500V-RG, controlador de temperatura de precisão com lógica PID, resfriador de recirculação, software TNEX para execução automatizada de perfil e registro de dados, além de todos os cabos e tubulações de conexão.

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