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Detalhes do produto:
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| Lugar de origem: | Suzhou, China |
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| Marca: | GoGo |
| Certificação: | ISO 9001:2015 / ISO 14001:2015 / ISO 45001:2018 |
| Número do modelo: | H1400-RG-XY |
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Condições de Pagamento e Envio:
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| Quantidade de ordem mínima: | 1 |
| Preço: | CNY 30000~600000/set |
| Detalhes da embalagem: | Caixa de papelão + caixa de madeira |
| Tempo de entrega: | 30~60 dias úteis |
| Termos de pagamento: | T/T |
| Habilidade da fonte: | 1 conjunto/dia |
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Informação detalhada |
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| Nome: | Estágio de aquecimento do microscópio | Método de arrefecimento/aquecimento: | Aquecimento de resistência |
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| Faixa de temperatura: | TR~1400°C | Estabilidade de temperatura: | ± 0,1 ℃ |
| Velocidade de arrefecimento de aquecimento/: | Taxa máxima de aquecimento: 150 ℃/min, taxa de resfriamento controlável | Exemplo de Holde: | Cerâmica; 20 mm * 4 mm * 20 mm (L * A * P) através da ranhura |
| Trajeto ótico: | Reflexão | Tamanho da janela superior: | φ3mm*2mm |
| Material da janela: | Vidro de sílica fundida JGS2 (faixa de transmissão: 220 nm - 2500 nm), removível e substituível manu | Distância da superfície superior da janela até a superfície superior do porta-amostras: | 11.6mm |
| Altura da Câmara: | 4mm | Deslocamento de amostra: | Faixa de deslocamento do eixo X/Y: ±6mm/±5mm, precisão de posicionamento: 0,01mm |
| Câmara: | Atmosfera | Dimensões/Peso Líquido: | 190mm*100mm*31,5mm/1,1kg |
| Configuração básica: | TNEX * 1、Estágio de aquecimento Ultra-High-T*1、Controlador de temperatura*1、Resfriador de recirculaç | Opcional: | Placa adaptadora/Chiller de recirculação personalizado/host de computador/software de controle de te |
| Destacar: | Estágio de Aquecimento para Microscópio com Manipulação XY,Estágio de Aquecimento para Microscópio de Alta Precisão,Estágios Controlados por Temperatura de Alta Precisão |
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Descrição de produto
O GoGo H1400-RG-XY é um estágio de aquecimento de microscópio especializado projetado para análise in situ avançada em geologia e metalurgia.tornando-o ideal para a observação metalográfica a alta temperatura e a espectroscopia Raman a alta temperaturaA sua característica definidora é o manipulador de amostras XY integrado, permitindo ± 6 mm/± 5 mm de movimento com 0.01 mm de precisão para reposicionar a amostra sob o objetivo sem quebrar o ambiente térmicoCombinado com um sistema de arrefecimento de apagamento rápido e uma janela superior giratória, este estágio de aquecimento do microscópio é perfeito para estudar inclusões de fusão, transformações de fase,e processos dinâmicos de alta temperatura.
Desempenho térmico de alta velocidade: alcança taxas de aquecimento de até 150 °C/min e temperaturas extremas de 1400 °C com estabilidade de ± 0,1 °C para experimentos rápidos mas precisos.
Extinção Rápida e Manipulação XY únicas: O posto de extinção dedicado permite um resfriamento rápido da amostra para fases de alta temperatura de "congelamento". O estágio XY embutido permite um reposicionamento preciso da amostra in situ,Uma característica crítica para esta fase de aquecimento do microscópio na análise de regiões específicas da amostra.
Otimizado para amostras desafiadoras: a janela superior giratória manualmente garante acesso óptico claro, permitindo que uma superfície limpa seja transformada em trajetória de luz se os materiais voláteis se condensarem,Garantia da observação ininterrupta.
Completo Fluxo de Trabalho Digital: Controlado pelo nosso software TNEX integrado, o sistema permite controle completo do computador, programação de experimentos complexos,e registo sincronizado de dados de temperatura e imagens microscópicas para análise abrangente.
Certificado de Qualidade e Kit Completo: Fabricado sob as normas ISO 9001, 14001 e 45001.
| Parâmetro | Especificações |
|---|---|
| Modelo | H1400-RG-XY |
| Marca / Origem | GoGo / Suzhou, China |
| Intervalo de temperatura | RT ~ 1400°C |
| Estabilidade de temperatura | ± 0,1°C |
| Taxa máxima de aquecimento | 150°C/min |
| Detentor da amostra | Furacão de cerâmica, 20x4x20 mm (WxHxD) |
| Manipulação de amostras | Viagem XY: ±6 mm/±5 mm; Precisão: 0,01 mm |
| Percurso óptico / Janela | Reflexão / φ3 mm x 2 mm, JGS2 Silício fundido (220-2500 nm), Rotável |
| Distância de trabalho | 11.6 mm |
| Dimensões e peso | 190x100x31,5 mm / 1,1 kg |
| Software básico | Plataforma TNEX |
Este estágio de aquecimento por microscópio profissional é amplamente utilizado em mercados internacionais importantes, incluindo o sudeste da Ásia, Oriente Médio, Rússia e África.É a ferramenta preferida pelos investigadores universitários, pesquisas geológicas, laboratórios metalúrgicos e centros industriais de I&D especializados no comportamento dos materiais em condições extremas.
Qual é a principal aplicação deste estágio de aquecimento do microscópio?
É especificamente concebido para observação metalográfica a altas temperaturas e estudos de Raman, particularmente para analisar inclusões de fusão na geologia e transformações de fase na metalurgia.
Como funciona o disparo rápido?
O sistema inclui um posto de apagamento dedicado. Após aquecimento, a amostra pode ser rapidamente transferida para este posto de frio para um arrefecimento rápido,Preservação de microestruturas a altas temperaturas para análise posterior.
Por que o movimento da amostra XY é importante?
Permite que os utilizadores movam a amostra com precisão sob o microscópio, enquanto a alta temperatura, permitindo o estudo de várias áreas ou características específicas sem resfriamento e reabertura da câmara.
Que software controla o palco?
O palco está totalmente integrado com o nosso software TNEX para controlo de computador, permitindo-lhe programar perfis de temperatura, gravar toda a experiência,e correlacionar dados térmicos com observações visuais.
O que está incluído no pacote padrão?
O pacote inclui o estágio de aquecimento H1400-RG-XY, um controlador de temperatura GTC, software TNEX, um refrigerador de recirculação e todos os cabos e tubos necessários.Placas de adaptador e chillers personalizados estão disponíveis como opções.
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