Etapa de calentamiento XRD Ultra alta temperatura Etapa universal para las principales marcas de XRD

Datos del producto:
Lugar de origen: Suzhou, China
Nombre de la marca: GoGo
Certificación: ISO 9001:2015 / ISO 14001:2015 / ISO 45001:2018
Número de modelo: XH1200
Pago y Envío Términos:
Cantidad de orden mínima: 1
Precio: CNY 30000~600000/set
Detalles de empaquetado: Caja de cartón + caja de madera
Tiempo de entrega: 30~60 días laborables
Condiciones de pago: T/T
Capacidad de la fuente: 1 juego/día
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Información detallada

Nombre: Etapa de muestra XRD Método de refrigeración/calentamiento: Calefacción de resistencia
Rango de temperatura: temperatura ambiente ~ 1200 ℃ Estabilidad de temperatura: ± 0.1 ℃
Tarifa de la calefacción/de enfriamiento: 0.1 ~ 20 ℃/min Titular de la muestra: Cerámica; 20 mm * 20 mm
Trayectoria óptica: Reflexión Ángulo de difracción 2θ: ∠0°~∠164°
Material de la ventana: Película Kapton Cámara: Atmósfera
Dimensiones: 120mm*120mm*88,5mm Peso neto: 0,8 kilos
Configuración básica: TNEX*1, etapa de calentamiento XRD Ultra-High-T XH1200*1, controlador de temperatura*1, enfriador de Opcional: Placa adaptadora/Enfriador de recirculación personalizado/Host de computadora/Software de control de
Resaltar:

Estadio de calentamiento XRD

,

Etapa de altas temperaturas

,

Estadio de alta temperatura universal

Descripción de producto

Platina Universal para Muestras XRD con Rango de Temperatura de 1200°C y Ángulo de Difracción de 0° a 164° 2θ para las Principales Marcas de XRD

Nombre del Producto: Platina Universal para Muestras XRD GoGo XH1200 de Ultra Alta Temperatura para Análisis de Fases In-Situ (hasta 1200°C)

Introducción del Producto

La GoGo XH1200 es una platina de muestras XRD premium diseñada para facilitar el análisis estructural in-situ de materiales bajo condiciones térmicas extremas. Ofreciendo un rango de temperatura excepcional desde ambiente hasta 1200°C con alta estabilidad de ±0.1°C, esta platina permite a los investigadores estudiar transiciones de fase, comportamiento de sinterización y estabilidad a alta temperatura de cerámicas, catalizadores, aleaciones y materiales avanzados directamente dentro de su difractómetro de rayos X. Diseñada para compatibilidad universal, cuenta con soportes de montaje personalizables para una integración perfecta con las principales marcas de instrumentos, incluyendo Rigaku, Bruker, Thermo Fisher, Shimadzu y Malvern Panalytical. Esta versátil platina de muestras XRD es una herramienta indispensable para avanzar en la investigación en ciencia de materiales a alta temperatura y desarrollo de procesos.

Ventajas Clave y Por Qué Elegir Nuestro Sistema

  • Rendimiento Insuperable a Alta Temperatura: Diseñada específicamente para operación estable y a largo plazo hasta 1200°C, esta platina de muestras XRD permite la observación directa de la formación de fases, descomposición y expansión térmica en tiempo real, lo cual es crítico para el desarrollo de refractarios, recubrimientos y materiales energéticos.

  • Integridad de Datos de Amplio Ángulo con Diseño en Forma de Arco: La innovadora cámara en forma de arco, equipada con una ventana de película de Kapton de baja absorción, proporciona un rango de ángulo de difracción 2θ sin obstrucciones de 0° a 164°. Esto asegura la recolección de patrones de difracción completos y de alta fidelidad sin restricciones angulares ni lagunas de datos.

  • Ajuste Universal con Compatibilidad Garantizada: Eliminamos los obstáculos de integración. Nuestro servicio incluye el suministro de un soporte de montaje personalizado, mecanizado con precisión para su modelo de difractómetro específico, asegurando un ajuste mecánico y óptico perfecto para experimentos fiables y repetibles.

  • Control de Rampa Térmica y Segmentos de Precisión: Más allá de simples puntos de ajuste, el software integrado TNEX proporciona un sofisticado control multimodelo, incluyendo tasas de rampa programables (0.1–20°C/min) y programación de segmentos. Esto permite simular historias térmicas complejas y estudiar la cinética de reacción durante las mediciones de difracción.

  • Robustez Certificada para Aplicaciones Exigentes: Fabricada bajo sistemas de calidad certificados ISO 9001:2015, 14001:2015 y 45001:2018, esta platina de muestras XRD está construida para durabilidad y precisión, asegurando un rendimiento fiable en rigurosos entornos de I+D académicos e industriales.

Especificaciones Técnicas

Parámetro Especificación
Modelo / Marca XH1200 / GoGo
Aplicación Principal Difracción de Rayos X In-Situ a Ultra Alta Temperatura
Compatibilidad Rigaku, Bruker, Thermo Fisher, Shimadzu, Malvern Panalytical
Rango de Temperatura RT a 1200°C
Estabilidad de Temperatura ±0.1°C
Velocidad de Calentamiento Programable, 0.1 a 20°C/min
Ventana de Difracción Forma de Arco, Película de Kapton (2θ: 0° – 164°)
Soporte de Muestra Cerámica de Alta Temperatura, 20mm x 20mm
Sistema de Control Plataforma de Software TNEX

Mercados y Clientes Objetivo

Esta platina de muestras XRD avanzada es crucial para la investigación y el desarrollo en regiones globales clave como el Sudeste Asiático, Oriente Medio, Rusia y África. Es el instrumento de elección para grupos de investigación universitarios, laboratorios nacionales y equipos de I+D industriales en campos como la metalurgia, la cerámica, la química de estado sólido y la fabricación avanzada.

Preguntas Frecuentes (FAQ)

  1. ¿Para qué materiales es esencial una platina de muestras XRD de 1200°C?
    Esta platina es vital para estudiar cerámicas (por ejemplo, zirconia, alúmina), superconductores de alta temperatura, procesos de calcinación de catalizadores, escorias metalúrgicas y cualquier material donde la estabilidad de fase o la transformación por encima de 1000°C sea un parámetro clave de investigación.

  2. ¿Cómo se asegura de que se adapta a mi marca específica de difractómetro?
    Tras la confirmación del pedido, solicitamos la marca y el modelo de su difractómetro. Luego proporcionamos un soporte adaptador de precisión, diseñado específicamente para la máquina, como parte del paquete estándar, garantizando un ajuste perfecto y seguro al goniómetro.

  3. ¿Por qué se utiliza la película de Kapton y es duradera a altas temperaturas?
    Se elige la película de Kapton por su excelente transparencia a los rayos X y su notable estabilidad térmica, manteniendo la integridad y una señal de fondo baja en todo el rango de operación hasta 1200°C.

  4. ¿Qué control ofrece el software TNEX para experimentos a alta temperatura?
    El software TNEX permite la automatización completa. Puede diseñar perfiles complejos con rampas lentas y controladas para estudiar cambios de fase sutiles, o crear secuencias con múltiples mantenimientos isotérmicos para investigar fenómenos dependientes del tiempo a temperaturas pico.

  5. ¿Qué se incluye en la configuración básica?
    El sistema se entrega como un kit completo de análisis térmico: el cuerpo principal de la platina XRD, un controlador de temperatura de alta precisión, un enfriador recirculante, el software TNEX, todos los cables y tubos necesarios, y su soporte de montaje de instrumento personalizado.

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