Fase di riscaldamento XRD Fase ad altissima temperatura Ultra universale per le principali marche XRD

Dettagli:
Luogo di origine: Suzhou, Cina
Marca: GoGo
Certificazione: ISO 9001:2015 / ISO 14001:2015 / ISO 45001:2018
Numero di modello: XH1200
Termini di pagamento e spedizione:
Quantità di ordine minimo: 1
Prezzo: CNY 30000~600000/set
Imballaggi particolari: Scatola di cartone + scatola di legno
Tempi di consegna: 30~60 giorni lavorativi
Termini di pagamento: T/T
Capacità di alimentazione: 1 set/giorno
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Informazioni dettagliate

Nome: Stadio di campionamento XRD Metodo di raffreddamento/riscaldamento: Riscaldamento di resistenza
Intervallo di temperatura: TA~1200℃ Stabilità della temperatura: ± 0,1 ℃
Tasso di raffreddamento/di riscaldamento: 0,1 ~ 20 ℃/min Supporto campione: Ceramica;20mm*20mm
Percorso ottico: Riflessione Angolo di diffrazione 2θ: ∠0°~∠164°
Materiale della finestra: Pellicola Kapton Camera: Atmosfera
Dimensioni: 120 mm*120 mm*88,5 mm Peso netto: 0,8 kg
Configurazione di base: TNEX*1、XRD Stadio di riscaldamento Ultra-High-T XH1200*1、 Regolatore di temperatura*1、Refrigeratore Opzionale: Piastra di adattamento/Refrigeratore a ricircolo personalizzato/Host computer/Software di controllo
Evidenziare:

Fase di riscaldamento XRD

,

Stadio ad altissima temperatura

,

Stadio universale ad alta temperatura

Descrizione di prodotto

Supporto Universale per Campioni XRD con Intervallo di Temperatura di 1200°C e Angolo di Diffrazione da 0° a 164° 2θ per i Principali Marchi XRD

Nome Prodotto: Supporto Universale per Campioni XRD Ultra-Alta Temperatura GoGo XH1200 per Analisi di Fase In-Situ (fino a 1200°C)

Introduzione al Prodotto

Il GoGo XH1200 è un supporto per campioni XRD di alta gamma progettato per facilitare l'analisi strutturale in-situ dei materiali in condizioni termiche estreme. Offrendo un eccezionale intervallo di temperatura da ambiente a 1200°C con elevata stabilità di ±0,1°C, questo supporto consente ai ricercatori di studiare transizioni di fase, comportamento di sinterizzazione e stabilità ad alta temperatura di ceramiche, catalizzatori, leghe e materiali avanzati direttamente all'interno del vostro diffrattometro a raggi X. Progettato per la compatibilità universale, dispone di staffe di montaggio personalizzabili per una perfetta integrazione con i principali marchi di strumenti, tra cui Rigaku, Bruker, Thermo Fisher, Shimadzu e Malvern Panalytical. Questo versatile supporto per campioni XRD è uno strumento indispensabile per far progredire la ricerca nella scienza dei materiali ad alta temperatura e nello sviluppo di processi.

Vantaggi Chiave e Perché Scegliere il Nostro Sistema

  • Prestazioni Ineguagliabili ad Alta Temperatura: Specificamente progettato per un funzionamento stabile e a lungo termine fino a 1200°C, questo supporto per campioni XRD consente l'osservazione diretta della formazione di fase, della decomposizione e dell'espansione termica in tempo reale, il che è fondamentale per lo sviluppo di refrattari, rivestimenti e materiali energetici.

  • Integrità dei Dati ad Ampio Angolo con Design ad Arco: L'innovativa camera ad arco, dotata di una finestra in film Kapton a basso assorbimento, fornisce un intervallo di angolo di diffrazione 2θ libero da ostacoli da 0° a 164°. Ciò garantisce la raccolta di pattern di diffrazione completi e ad alta fedeltà senza restrizioni angolari o lacune nei dati.

  • Vestibilità Universale con Compatibilità Garantita: Eliminiamo gli ostacoli all'integrazione. Il nostro servizio include la fornitura di una staffa di montaggio personalizzata, lavorata con precisione per il vostro specifico modello di diffrattometro, garantendo una perfetta compatibilità meccanica e ottica per esperimenti affidabili e ripetibili.

  • Rampa Termica di Precisione e Controllo a Segmenti: Oltre ai semplici setpoint, il software integrato TNEX fornisce un sofisticato controllo multimodale, inclusi tassi di rampa programmabili (0,1–20°C/min) e programmazione a segmenti. Ciò consente di simulare storie termiche complesse e studiare la cinetica di reazione durante le misurazioni di diffrazione.

  • Robustezza Certificata per Applicazioni Esigenti: Prodotto secondo i sistemi di qualità certificati ISO 9001:2015, 14001:2015 e 45001:2018, questo supporto per campioni XRD è costruito per durabilità e precisione, garantendo prestazioni affidabili in rigorosi ambienti di ricerca e sviluppo accademici e industriali.

Specifiche Tecniche

Parametro Specifiche
Modello / Marchio XH1200 / GoGo
Applicazione Principale Diffrazione a Raggi X In-Situ Ultra-Alta Temperatura
Compatibilità Rigaku, Bruker, Thermo Fisher, Shimadzu, Malvern Panalytical
Intervallo di Temperatura Da RT a 1200°C
Stabilità della Temperatura ±0,1°C
Velocità di Riscaldamento Programmabile, da 0,1 a 20°C/min
Finestra di Diffrazione Ad arco, Film Kapton (2θ: 0° – 164°)
Portacampioni Ceramica ad Alta Temperatura, 20mm x 20mm
Sistema di Controllo Piattaforma Software TNEX

Mercati e Clienti Target

Questo supporto avanzato per campioni XRD è cruciale per la ricerca e lo sviluppo in regioni globali chiave come il Sud-est asiatico, il Medio Oriente, la Russia e l'Africa. È lo strumento di scelta per gruppi di ricerca universitari, laboratori nazionali e team di ricerca e sviluppo industriali nei settori della metallurgia, della ceramica, della chimica dello stato solido e della produzione avanzata.

Domande Frequenti (FAQ)

  1. Per quali materiali è essenziale un supporto per campioni XRD a 1200°C?
    Questo supporto è vitale per studiare ceramiche (ad es. zirconia, allumina), superconduttori ad alta temperatura, processi di calcinazione di catalizzatori, scorie metallurgiche e qualsiasi materiale in cui la stabilità di fase o la trasformazione sopra i 1000°C sia un parametro di ricerca chiave.

  2. Come garantite che si adatti al mio specifico marchio di diffrattometro?
    Alla conferma dell'ordine, richiediamo marca e modello del vostro diffrattometro. Forniamo quindi una staffa adattatore di precisione, ingegnerizzata specificamente per lo strumento, come parte del pacchetto standard, garantendo una perfetta e sicura adattabilità al goniometro.

  3. Perché viene utilizzato il film Kapton, ed è durevole ad alte temperature?
    Il film Kapton è scelto per la sua eccellente trasparenza ai raggi X e la notevole stabilità termica, mantenendo integrità e basso segnale di fondo nell'intero intervallo operativo fino a 1200°C.

  4. Quale controllo offre il software TNEX per esperimenti ad alta temperatura?
    Il software TNEX consente l'automazione completa. È possibile progettare profili complessi con rampe lente e controllate per studiare sottili cambiamenti di fase, o creare sequenze con più mantenimenti isotermici per indagare fenomeni dipendenti dal tempo a temperature di picco.

  5. Cosa è incluso nella configurazione base?
    Il sistema viene consegnato come un kit completo di analisi termica: il corpo principale del supporto XRD, un controller di temperatura ad alta precisione, un refrigeratore a ricircolo, il software TNEX, tutti i cavi e tubi necessari e la vostra staffa di montaggio personalizzata per lo strumento.

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