Porte-échantillon chauffant pour DRX, température ultra-élevée, universel pour les principales marques de DRX

Détails sur le produit:
Lieu d'origine: Suzhou, Chine
Nom de marque: GoGo
Certification: ISO 9001:2015 / ISO 14001:2015 / ISO 45001:2018
Numéro de modèle: XH1200
Conditions de paiement et expédition:
Quantité de commande min: 1
Prix: CNY 30000~600000/set
Détails d'emballage: Boîte en carton + boîte en bois
Délai de livraison: 30 ~ 60 jours ouvrables
Conditions de paiement: T/T
Capacité d'approvisionnement: 1set/jour
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Détail Infomation

Nom: Étape d'échantillonnage XRD Méthode de refroidissement/chauffage: Chauffage de résistance
Plage de température: RT~1200℃ Stabilité de la température: ± 0,1 ℃
Taux de chauffage/de refroidissement: 0,1 ~ 20 ℃ / min Titulaire de l'échantillon: Céramique ; 20 mm * 20 mm
Chemin optique: Réflexion Angle de diffraction 2θ: ∠0°~∠164°
Matériau de la fenêtre: Film Kapton Chambre: Atmosphère
Dimensions: 120 mm * 120 mm * 88,5 mm Poids net: 0,8kg
Configuration de base: TNEX*1, étage de chauffage XRD ultra-haute température XH1200*1, contrôleur de température*1, refroi Facultatif: Plaque d'adaptation/refroidisseur à recirculation personnalisé/hôte d'ordinateur/logiciel de
Mettre en évidence:

Porte-échantillon chauffant pour DRX

,

Porte-échantillon à température ultra-élevée

,

Porte-échantillon universel à haute température

Description de produit

Platine d'échantillonnage XRD universelle avec plage de température de 1 200 °C et angle de diffraction 2θ de 0° à 164° pour les principales marques XRD

Nom du produit : Platine d'échantillonnage XRD universelle ultra-haute température GoGo XH1200 pour analyse de phase in situ (jusqu'à 1 200 °C)

Présentation du produit

Le GoGo XH1200 est une platine d'échantillonnage XRD haut de gamme conçue pour faciliter l'analyse structurelle in situ des matériaux dans des conditions thermiques extrêmes. Offrant une plage de température exceptionnelle allant de la température ambiante à 1 200 °C avec une stabilité élevée de ±0,1 °C, cette étape permet aux chercheurs d'étudier les transitions de phase, le comportement de frittage et la stabilité à haute température des céramiques, des catalyseurs, des alliages et des matériaux avancés directement à l'intérieur de votre diffractomètre à rayons X. Conçu pour une compatibilité universelle, il comporte des supports de montage personnalisables pour une intégration transparente avec les principales marques d'instruments, notamment Rigaku, Bruker, Shimadzu et Malvern Panalytical. Cette platine d'échantillonnage XRD polyvalente est un outil indispensable pour faire progresser la recherche dans le domaine de la science des matériaux à haute température et du développement de procédés.

Avantages clés et pourquoi choisir notre système

  • Performances inégalées à haute température : spécialement conçue pour un fonctionnement stable et à long terme jusqu'à 1 200 °C, cette platine d'échantillonnage XRD permet l'observation directe de la formation de phase, de la décomposition et de la dilatation thermique en temps réel, ce qui est essentiel pour le développement de réfractaires, de revêtements et de matériaux énergétiques.

  • Intégrité des données grand angle avec une conception en forme d'arc : La chambre innovante en forme d'arc, équipée d'une fenêtre en film Kapton à faible absorption, offre une plage d'angle de diffraction 2θ dégagée de 0° à 164°. Cela garantit la collecte de modèles de diffraction complets et haute fidélité sans restrictions angulaires ni lacunes dans les données.

  • Ajustement universel avec compatibilité garantie : nous éliminons les obstacles à l'intégration. Notre service comprend la fourniture d'un support de montage personnalisé usiné avec précision pour votre modèle de diffractomètre spécifique, garantissant un ajustement mécanique et optique parfait pour des expériences fiables et reproductibles.

  • Contrôle de précision de la rampe thermique et des segments : au-delà des simples points de consigne, le logiciel TNEX intégré offre un contrôle multimode sophistiqué, y compris des taux de rampe programmables (0,1 à 20 °C/min) et une programmation de segments. Cela permet de simuler des histoires thermiques complexes et d’étudier la cinétique des réactions lors des mesures de diffraction.

  • Robustesse certifiée pour les applications exigeantes : Fabriqué selon les systèmes de qualité certifiés ISO 9001 : 2015, 14001 : 2015 et 45001 : 2018, cette platine d'échantillonnage XRD est conçue pour la durabilité et la précision, garantissant des performances fiables dans des environnements de R&D académiques et industriels rigoureux.

Spécifications techniques

Paramètre Spécification
Modèle / Marque XH1200 / GoGo
Demande principale Diffraction des rayons X in situ à très haute température
Compatibilité Rigaku, Bruker, Shimadzu, Malvern Panalytical
Plage de température TA à 1200°C
Stabilité de la température ±0,1 °C
Taux de chauffage Programmable, 0,1 à 20°C/min
Fenêtre de diffraction Film Kapton en forme d'arc (2θ : 0° – 164°)
Porte-échantillon Céramique haute température, 20 mm x 20 mm
Système de contrôle Plateforme logicielle TNEX

Marchés cibles et clients

Cette étape d’échantillonnage XRD avancée est cruciale pour la recherche et le développement dans des régions clés du monde telles que l’Asie du Sud-Est, le Moyen-Orient, la Russie et l’Afrique. C'est l'instrument de choix des groupes de recherche universitaires, des laboratoires nationaux et des équipes industrielles de R&D dans des domaines tels que la métallurgie, la céramique, la chimie du solide et la fabrication avancée.

Foire aux questions (FAQ)

  1. Pour quels matériaux une étape d'échantillonnage DRX à 1 200 °C est-elle essentielle ?
    Cette étape est vitale pour étudier les céramiques (par exemple la zircone, l'alumine), les supraconducteurs à haute température, les procédés de calcination de catalyseurs, les scories métallurgiques et tout matériau pour lequel la stabilité de phase ou la transformation au-dessus de 1000°C est un paramètre clé de recherche.

  2. Comment vous assurer qu'il convient à ma marque spécifique de diffractomètre ?
    Lors de la confirmation de commande, nous demandons la marque et le modèle de votre diffractomètre. Nous fournissons ensuite un support adaptateur conçu avec précision et spécifique à la machine dans le cadre de l'emballage standard, garantissant un ajustement parfait et sécurisé au goniomètre.

  3. Pourquoi le film Kapton est-il utilisé et est-il durable à haute température ?
    Le film Kapton est choisi pour son excellente transparence aux rayons X et sa remarquable stabilité thermique, tout en maintenant son intégrité et son faible signal de fond sur toute la plage de fonctionnement jusqu'à 1 200 °C.

  4. Quel contrôle le logiciel TNEX offre-t-il pour les expériences à haute température ?
    Le logiciel TNEX permet une automatisation complète. Vous pouvez concevoir des profils complexes avec des rampes lentes et contrôlées pour étudier des changements de phase subtils, ou créer des séquences avec plusieurs prises isothermes pour étudier les phénomènes dépendant du temps aux températures maximales.

  5. Qu'est-ce qui est inclus dans la configuration de base ?
    Le système est livré sous la forme d'un kit d'analyse thermique complet : le corps principal de l'étage XRD, un contrôleur de température de haute précision, un refroidisseur à recirculation, le logiciel TNEX, tous les câbles et tubes nécessaires et votre support de montage d'instrument personnalisé.

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