Porte-échantillon chauffant pour DRX, température ultra-élevée, universel pour les principales marques de DRX

Détails sur le produit:
Lieu d'origine: Suzhou, Chine
Nom de marque: GoGo
Certification: ISO 9001:2015 / ISO 14001:2015 / ISO 45001:2018
Numéro de modèle: XH1200
Conditions de paiement et expédition:
Quantité de commande min: 1
Prix: CNY 30000~600000/set
Détails d'emballage: Boîte en carton + boîte en bois
Délai de livraison: 30 ~ 60 jours ouvrables
Conditions de paiement: T/T
Capacité d'approvisionnement: 1set/jour
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Détail Infomation

Nom: Étape d'échantillonnage XRD Méthode de refroidissement/chauffage: Chauffage de résistance
Plage de température: RT~1200℃ Stabilité de la température: ± 0,1 ℃
Taux de chauffage/de refroidissement: 0,1 ~ 20 ℃ / min Titulaire de l'échantillon: Céramique ; 20 mm * 20 mm
Chemin optique: Réflexion Angle de diffraction 2θ: ∠0°~∠164°
Matériau de la fenêtre: Film Kapton Chambre: Atmosphère
Dimensions: 120 mm * 120 mm * 88,5 mm Poids net: 0,8kg
Configuration de base: TNEX*1, étage de chauffage XRD ultra-haute température XH1200*1, contrôleur de température*1, refroi Facultatif: Plaque d'adaptation/refroidisseur à recirculation personnalisé/hôte d'ordinateur/logiciel de
Mettre en évidence:

Porte-échantillon chauffant pour DRX

,

Porte-échantillon à température ultra-élevée

,

Porte-échantillon universel à haute température

Description de produit

Stade d'échantillonnage XRD universel avec une plage de température de 1200°C et un angle de diffraction de 0° à 164° 2θ pour les principales marques de XRD

Nom du produit: GoGo XH1200 échantillonneur XRD universel à température ultra-haute pour analyse de phase in situ (jusqu'à 1200°C)

Introduction du produit

Le GoGo XH1200 est un échantillonneur XRD haut de gamme conçu pour faciliter l'analyse structurelle in situ des matériaux dans des conditions thermiques extrêmes.Offrant une plage de température exceptionnelle de l'environnement à 1200°C avec une grande stabilité de ±0.1°C, cette étape permet aux chercheurs d'étudier les transitions de phase, le comportement de frittage et la stabilité à haute température des céramiques, des catalyseurs, des alliages,et des matériaux avancés directement dans votre diffractomètre à rayons XConçu pour une compatibilité universelle, il est doté de supports de montage personnalisables pour une intégration transparente avec les principales marques d'instruments, notamment Rigaku, Bruker, Thermo Fisher, Shimadzu,et Malvern AnalyticalCette étape d'échantillonnage XRD polyvalente est un outil indispensable pour faire progresser la recherche en science des matériaux à haute température et le développement de procédés.

Principaux avantages et pourquoi choisir notre système

  • Des performances inégalées à haute température: spécialement conçues pour un fonctionnement stable à long terme jusqu'à 1200 °C, cette étape d'échantillonnage XRD permet d'observer directement la formation de phase, la décomposition,et l'expansion thermique en temps réel, ce qui est essentiel pour le développement de matériaux réfractaires, revêtements et énergétiques.

  • Intégrité des données grand angle avec conception en forme d'arc: la chambre innovante en forme d'arc, équipée d'une fenêtre de film Kapton à faible absorption, offre une plage d'angle de diffraction 2θ sans entrave de 0° à 164°.Cela assure la collecte de modèles de diffraction complets et de haute fidélité sans restrictions angulaires ni lacunes de données.

  • Nous éliminons les obstacles à l'intégration. notre service comprend la fourniture d'un support de montage personnalisé, fabriqué avec précision pour votre modèle de diffractomètre spécifique,Il s'agit d'un dispositif qui assure un ajustement mécanique et optique parfait pour un système fiable., des expériences répétables.

  • Contrôle de la rampe thermique et des segments de précision: au-delà des réglages simples, le logiciel TNEX intégré fournit un contrôle multimode sophistiqué, y compris des vitesses de rampe programmables (0,01°C/min) et la programmation des segmentsCela permet de simuler des histoires thermiques complexes et d'étudier la cinétique des réactions lors de mesures de diffraction.

  • Robustesse certifiée pour des applications exigeantes: Fabriqué selon la norme ISO 9001:2015, 14001:2015, et les systèmes de qualité certifiés 45001:2018, cette étape d'échantillonnage XRD est conçue pour la durabilité et la précision, garantissant des performances fiables dans des environnements de R&D académiques et industriels rigoureux.

Spécifications techniques

Paramètre Spécification
Modèle / Marque XH1200 / GoGo
Application principale Diffraction des rayons X à température ultra-haute
Compatibilité Rigaku, Bruker, Thermo Fisher, Shimadzu, Malvern Analytical, qui est une société de conseil.
Plage de température NT2 température de l'air
Stabilité à la température ± 0,1°C
Taux de chauffage Programmable, de 0,1 à 20 °C/min
Fenêtre de diffraction En forme d'arc, film Kapton (2θ: 0° 164°)
Titulaire de l'échantillon Céramique à haute température, 20 mm x 20 mm
Système de contrôle Plateforme logicielle TNEX

Marchés cibles et clients

Cette étape avancée de l'échantillonnage XRD est cruciale pour la recherche et le développement dans des régions clés du monde telles que l'Asie du Sud-Est, le Moyen-Orient, la Russie et l'Afrique.Il est l'instrument de choix des groupes de recherche universitaires, des laboratoires nationaux et des équipes de R & D industrielles dans des domaines tels que la métallurgie, la céramique, la chimie à l'état solide et la fabrication avancée.

Questions fréquemment posées

  1. Pour quels matériaux une phase d'échantillonnage XRD à 1200 °C est-elle essentielle?
    Cette étape est vitale pour l'étude de la céramique (par exemple, le zirconium, l'alumine), des supraconducteurs à haute température, des processus de calcination par catalyseur, des scories métallurgiques,et tout matériau dont la stabilité de phase ou la transformation au-dessus de 1000°C est un paramètre clé de la recherche.

  2. Comment vous assurez-vous qu'il correspond à ma marque spécifique de diffractomètre?
    Une fois la commande confirmée, nous vous demandons la marque et le modèle de votre diffractomètre, puis nous vous fournissons un support adaptateur spécifique à la machine,garantissant un ajustement parfait et sûr au goniomètre.

  3. Pourquoi le film Kapton est-il utilisé et est-il durable à haute température?
    Le film Kapton est choisi pour son excellente transparence aux rayons X et sa remarquable stabilité thermique, en maintenant son intégrité et son faible signal de fond sur toute la plage de fonctionnement jusqu'à 1200 °C.

  4. Quel contrôle le logiciel TNEX offre pour les expériences à haute température?
    Le logiciel TNEX permet une automatisation complète, vous pouvez concevoir des profils complexes avec des rampes lentes et contrôlées pour étudier les changements de phase subtils,ou créer des séquences avec de multiples prises isothermes pour étudier des phénomènes dépendants du temps à des températures de pointe.

  5. Qu'est-ce qui est inclus dans la configuration de base?
    Le système est livré comme un kit d'analyse thermique complet: le corps principal de la scène XRD, un régulateur de température de haute précision, un refroidisseur à recirculation, un logiciel TNEX, tous les câbles et tubes nécessaires,et votre support de montage d'instrument personnalisé.

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