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Fase de aquecimento e resfriamento XRD. Controle de temperatura no local para análise XRD

July 28, 2026

últimas notícias da empresa sobre Fase de aquecimento e resfriamento XRD. Controle de temperatura no local para análise XRD

Palco de Aquecimento e Resfriamento de DRX de Alto Desempenho para análise de difração de raios X in-situ. Controle preciso de temperatura de criogênicas a altas temperaturas para pesquisa avançada de materiais.

 

Um Palco de Aquecimento e Resfriamento de DRX é um palco de amostra com controle de temperatura de precisão projetado para experimentos de difração de raios X (DRX) in-situ. Ele permite que os pesquisadores investiguem mudanças estruturais, cristalográficas e de fase em materiais sob condições controladas de aquecimento, resfriamento ou ciclagem térmica enquanto coletam dados de DRX em tempo real.

Esta tecnologia é amplamente utilizada em ciência de materiais, semicondutores, baterias, cerâmicas, metalurgia, polímeros, catalisadores e nanotecnologia.


Principais Características

  • Ampla faixa de temperatura de criogênicas a altas temperaturas

  • Controle de temperatura PID de alta precisão

  • Taxas rápidas de aquecimento e resfriamento

  • Excelente estabilidade de temperatura

  • Medições de DRX in-situ em tempo real

  • Perfis de temperatura programáveis

  • Operação opcional a vácuo e atmosfera controlada

  • Compatível com os principais sistemas de difratômetro de DRX

  • Fácil integração de software e automação


Faixa de Temperatura Típica

Modelo Faixa de Temperatura
Palco de DRX Peltier -40°C a +150°C
Palco Padrão de Aquecimento e Resfriamento -196°C a +600°C
Palco de DRX de Alta Temperatura Temperatura Ambiente a 1000°C
Palco de Ultra Alta Temperatura Temperatura Ambiente a 1500°C

Aplicações

Materiais de Bateria

  • Baterias de íon-lítio

  • Baterias de estado sólido

  • Baterias de íon-sódio

  • Materiais de cátodo e ânodo

Estudo:

  • Transformação de fase

  • Evolução da estrutura cristalina

  • Estabilidade térmica

  • Mecanismos de carga/descarga


Materiais Semicondutores

  • Silício (Si)

  • Carbeto de Silício (SiC)

  • Nitreto de Gálio (GaN)

  • Materiais de filme fino

Estudo:

  • Expansão térmica

  • Tensão de rede

  • Orientação cristalina

  • Análise de tensões


Cerâmicas

  • Comportamento de sinterização

  • Evolução de fase

  • Estabilidade em alta temperatura

  • Crescimento cristalino


Metais e Ligas

  • Transformação de fase

  • Tratamento térmico

  • Recristalização

  • Comportamento de oxidação


Polímeros

  • Cristalização

  • Comportamento de fusão

  • Transição vítrea

  • Degradação térmica


Especificações Típicas

Parâmetro Especificação
Faixa de Temperatura -196°C a 1500°C (dependente do modelo)
Precisão de Temperatura ±0.1°C
Estabilidade de Temperatura ±0.1°C
Taxa de Aquecimento 1–100°C/min
Método de Resfriamento Peltier ou Nitrogênio Líquido
Atmosfera Ar, Nitrogênio, Argônio, Vácuo
Tamanho da Amostra Ø5–25 mm
Modo de Controle Controle de Temperatura Programável PID

Vantagens do Palco de Aquecimento e Resfriamento de DRX In-Situ

  • Observar mudanças estruturais durante processos térmicos

  • Monitorar transições de fase em tempo real

  • Melhorar a compreensão do desempenho do material

  • Simular ambientes operacionais reais

  • Obter dados de difração altamente precisos sob temperaturas controladas

  • Aumentar a eficiência da pesquisa e a repetibilidade experimental


Áreas de Pesquisa Típicas

  • Materiais Avançados

  • Materiais de Armazenamento de Energia

  • Dispositivos Semicondutores

  • Materiais Fotovoltaicos

  • Catalisadores

  • Cerâmicas Funcionais

  • Materiais Aeroespaciais

  • Materiais Biomédicos

  • Nanomateriais

  • Metalurgia do Pó


Instrumentos Compatíveis

O Palco de Aquecimento e Resfriamento de DRX pode ser integrado à maioria dos difratômetros de raios X comerciais, incluindo sistemas de:

  • Bruker

  • Rigaku

  • Malvern Panalytical

  • Thermo Fisher Scientific

  • STOE

  • Shimadzu


 

 

 

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