logo
Hubungi kami

Kontak Person : Luo Zhuan

Nomor telepon : 15605601921

Ada apa : +8615605601921

Free call

XRD Pemanasan Tingkat Pendinginan In-Situ Kontrol Suhu untuk Analisis XRD

July 28, 2026

berita perusahaan terbaru tentang XRD Pemanasan Tingkat Pendinginan In-Situ Kontrol Suhu untuk Analisis XRD

Tahap Pemanasan Pendinginan XRD Kinerja Tinggi untuk analisis difraksi sinar-X in-situ. Kontrol suhu presisi dari suhu kriogenik hingga suhu tinggi untuk penelitian material canggih.

 

Sebuah Tahap Pemanasan Pendinginan XRD adalah tahap sampel yang dikontrol suhunya secara presisi yang dirancang untuk eksperimen difraksi sinar-X (XRD) in-situ. Ini memungkinkan para peneliti untuk menyelidiki perubahan struktural, kristalografi, dan fasa dalam material di bawah kondisi pemanasan, pendinginan, atau siklus termal yang terkontrol sambil mengumpulkan data XRD secara real-time.

Teknologi ini banyak digunakan dalam sains material, semikonduktor, baterai, keramik, metalurgi, polimer, katalis, dan nanoteknologi.


Fitur Utama

  • Rentang suhu lebar dari suhu kriogenik hingga suhu tinggi

  • Kontrol suhu PID presisi tinggi

  • Tingkat pemanasan dan pendinginan yang cepat

  • Stabilitas suhu yang sangat baik

  • Pengukuran XRD in-situ real-time

  • Profil suhu yang dapat diprogram

  • Operasi vakum dan atmosfer terkontrol opsional

  • Kompatibel dengan sistem difraktor XRD utama

  • Integrasi perangkat lunak dan otomatisasi yang mudah


Rentang Suhu Khas

Model Rentang Suhu
Tahap Peltier XRD -40°C hingga +150°C
Tahap Pemanasan Pendinginan Standar -196°C hingga +600°C
Tahap XRD Suhu Tinggi Suhu Ruangan hingga 1000°C
Tahap Suhu Sangat Tinggi Suhu Ruangan hingga 1500°C

Aplikasi

Bahan Baterai

  • Baterai Lithium-ion

  • Baterai solid-state

  • Baterai Sodium-ion

  • Bahan katoda dan anoda

Studi:

  • Transformasi fasa

  • Evolusi struktur kristal

  • Stabilitas termal

  • Mekanisme pengisian/pengosongan


Bahan Semikonduktor

  • Silikon (Si)

  • Silikon Karbida (SiC)

  • Galium Nitrida (GaN)

  • Bahan film tipis

Studi:

  • Ekspansi termal

  • Regangan kisi

  • Orientasi kristal

  • Analisis tegangan


Keramik

  • Perilaku sintering

  • Evolusi fasa

  • Stabilitas suhu tinggi

  • Pertumbuhan kristal


Logam dan Paduan

  • Transformasi fasa

  • Perlakuan panas

  • Rekristalisasi

  • Perilaku oksidasi


Polimer

  • Kristalisasi

  • Perilaku peleburan

  • Transisi gelas

  • Degradasi termal


Spesifikasi Khas

Parameter Spesifikasi
Rentang Suhu -196°C hingga 1500°C (tergantung model)
Akurasi Suhu ±0.1°C
Stabilitas Suhu ±0.1°C
Tingkat Pemanasan 1–100°C/menit
Metode Pendinginan Peltier atau Nitrogen Cair
Atmosfer Udara, Nitrogen, Argon, Vakum
Ukuran Sampel Ø5–25 mm
Mode Kontrol Kontrol Suhu Terprogram PID

Keunggulan Tahap Pemanasan Pendinginan XRD In-Situ

  • Mengamati perubahan struktural selama proses termal

  • Memantau transisi fasa secara real-time

  • Meningkatkan pemahaman kinerja material

  • Mensimulasikan lingkungan operasi aktual

  • Memperoleh data difraksi yang sangat akurat pada suhu terkontrol

  • Meningkatkan efisiensi penelitian dan pengulangan eksperimental


Area Penelitian Khas

  • Material Canggih

  • Material Penyimpanan Energi

  • Perangkat Semikonduktor

  • Material Fotovoltaik

  • Katalis

  • Keramik Fungsional

  • Material Dirgantara

  • Material Biomedis

  • Nanomaterial

  • Metalurgi Serbuk


Instrumen yang Kompatibel

Tahap Pemanasan Pendinginan XRD dapat diintegrasikan dengan sebagian besar difraktor sinar-X komersial, termasuk sistem dari:

  • Bruker

  • Rigaku

  • Malvern Panalytical

  • Thermo Fisher Scientific

  • STOE

  • Shimadzu


 

 

 

Hubungi kami

Masukkan Pesan Anda