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एक्सआरडी हीटिंग कूलिंग स्टेज | एक्सआरडी विश्लेषण के लिए इन-सीटू तापमान नियंत्रण

July 28, 2026

के बारे में नवीनतम कंपनी की खबर एक्सआरडी हीटिंग कूलिंग स्टेज | एक्सआरडी विश्लेषण के लिए इन-सीटू तापमान नियंत्रण

इन-सीटू एक्स-रे विवर्तन विश्लेषण के लिए उच्च-प्रदर्शन एक्सआरडी हीटिंग कूलिंग स्टेज। उन्नत सामग्री अनुसंधान के लिए क्रायोजेनिक से उच्च तापमान तक सटीक तापमान नियंत्रण।

 

एक एक्सआरडी हीटिंग कूलिंग स्टेज एक सटीक तापमान-नियंत्रित नमूना स्टेज है जिसे इन-सीटू एक्स-रे विवर्तन (एक्सआरडी) प्रयोगों के लिए डिज़ाइन किया गया है। यह शोधकर्ताओं को वास्तविक समय एक्सआरडी डेटा एकत्र करते समय नियंत्रित हीटिंग, कूलिंग या थर्मल साइक्लिंग स्थितियों के तहत सामग्री में संरचनात्मक, क्रिस्टलोग्राफिक और चरण परिवर्तनों की जांच करने में सक्षम बनाता है।

इस तकनीक का व्यापक रूप से सामग्री विज्ञान, अर्धचालक, बैटरी, सिरेमिक, धातु विज्ञान, पॉलिमर, उत्प्रेरक और नैनोटेक्नोलॉजी में उपयोग किया जाता है।


मुख्य विशेषताएं

  • क्रायोजेनिक से उच्च तापमान तक विस्तृत तापमान सीमा

  • उच्च-सटीकता पीआईडी तापमान नियंत्रण

  • तेज हीटिंग और कूलिंग दरें

  • उत्कृष्ट तापमान स्थिरता

  • वास्तविक समय इन-सीटू एक्सआरडी माप

  • प्रोग्रामेबल तापमान प्रोफाइल

  • वैकल्पिक वैक्यूम और नियंत्रित वातावरण संचालन

  • प्रमुख एक्सआरडी डिफ्रेक्टोमीटर सिस्टम के साथ संगत

  • आसान सॉफ्टवेयर एकीकरण और स्वचालन


विशिष्ट तापमान सीमा

मॉडल तापमान सीमा
पेल्टियर एक्सआरडी स्टेज -40°C से +150°C
मानक हीटिंग कूलिंग स्टेज -196°C से +600°C
उच्च-तापमान एक्सआरडी स्टेज कमरे का तापमान से 1000°C
अल्ट्रा हाई-टेम्परेचर स्टेज कमरे का तापमान से 1500°C

अनुप्रयोग

बैटरी सामग्री

  • लिथियम-आयन बैटरी

  • ठोस-अवस्था बैटरी

  • सोडियम-आयन बैटरी

  • कैथोड और एनोड सामग्री

अध्ययन:

  • चरण परिवर्तन

  • क्रिस्टल संरचना विकास

  • थर्मल स्थिरता

  • चार्ज/डिस्चार्ज तंत्र


अर्धचालक सामग्री

  • सिलिकॉन (Si)

  • सिलिकॉन कार्बाइड (SiC)

  • गैलियम नाइट्राइड (GaN)

  • पतली-फिल्म सामग्री

अध्ययन:

  • थर्मल विस्तार

  • जाली तनाव

  • क्रिस्टल अभिविन्यास

  • तनाव विश्लेषण


सिरेमिक

  • सिंटरिंग व्यवहार

  • चरण विकास

  • उच्च-तापमान स्थिरता

  • क्रिस्टल वृद्धि


धातु और मिश्र धातु

  • चरण परिवर्तन

  • गर्मी उपचार

  • पुनर्क्रिस्टलीकरण

  • ऑक्सीकरण व्यवहार


पॉलिमर

  • क्रिस्टलीकरण

  • पिघलने का व्यवहार

  • ग्लास संक्रमण

  • थर्मल गिरावट


विशिष्ट विनिर्देश

पैरामीटर विनिर्देश
तापमान सीमा -196°C से 1500°C (मॉडल पर निर्भर)
तापमान सटीकता ±0.1°C
तापमान स्थिरता ±0.1°C
हीटिंग दर 1–100°C/मिनट
कूलिंग विधि पेल्टियर या तरल नाइट्रोजन
वातावरण वायु, नाइट्रोजन, आर्गन, वैक्यूम
नमूना आकार Ø5–25 मिमी
नियंत्रण मोड पीआईडी ​​प्रोग्रामेबल तापमान नियंत्रण

इन-सीटू एक्सआरडी हीटिंग कूलिंग स्टेज के लाभ

  • थर्मल प्रक्रियाओं के दौरान संरचनात्मक परिवर्तनों का निरीक्षण करें

  • वास्तविक समय चरण संक्रमण की निगरानी करें

  • सामग्री प्रदर्शन की समझ में सुधार करें

  • वास्तविक ऑपरेटिंग वातावरण का अनुकरण करें

  • नियंत्रित तापमान पर अत्यधिक सटीक विवर्तन डेटा प्राप्त करें

  • अनुसंधान दक्षता और प्रयोगात्मक दोहराव में वृद्धि करें


विशिष्ट अनुसंधान क्षेत्र

  • उन्नत सामग्री

  • ऊर्जा भंडारण सामग्री

  • अर्धचालक उपकरण

  • फोटोवोल्टिक सामग्री

  • उत्प्रेरक

  • कार्यात्मक सिरेमिक

  • एयरोस्पेस सामग्री

  • बायोमेडिकल सामग्री

  • नैनो सामग्री

  • पाउडर धातु विज्ञान


संगत उपकरण

एक्सआरडी हीटिंग कूलिंग स्टेज को अधिकांश वाणिज्यिक एक्स-रे डिफ्रेक्टोमीटर के साथ एकीकृत किया जा सकता है, जिसमें निम्नलिखित से सिस्टम शामिल हैं:

  • ब्रकर

  • रिगकू

  • मालवर्न पनालिटिकल

  • थर्मो फिशर साइंटिफिक

  • स्टो

  • शिमाद्ज़ु


 

 

 

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