H1500V-RG Microscopio de temperatura ultraalta de 1500 °C, etapa de calentamiento, cámara de vacío, soporte de cerámica para espectroscopia Raman

Descripción de producto

H1500V-RG 1500°C Etapa de calentamiento del microscopio de temperatura ultra alta

El GoGoH1500V-RG Etapa de calentamiento del microscopio de altísima temperaturaEl sistema de calibración de la temperatura de los materiales de ensayo está diseñado para los investigadores que requieren un rendimiento térmico extremo en la caracterización de materiales in situ.1500 °C, esta etapa de calentamiento permite el estudio de las transiciones de fase, la expansión térmica y las reacciones a altas temperaturas en cerámicas avanzadas, metales refractarios y materiales semiconductores.

Características clave para la investigación de las temperaturas ultra altas

• Temperatura máxima de 1500 °C:La tecnología de calentamiento por resistencia ofrece un calentamiento uniforme y constante de hasta 1500 °C, adecuado para las aplicaciones de microscopía y espectroscopia de alta temperatura más exigentes.
• Integridad de la cámara de vacío:El ambiente de vacío sellado evita la oxidación de la muestra a temperaturas extremas, lo que garantiza la observación del comportamiento del material puro sin interferencias atmosféricas.
• Contenedor cerámico de tipo horno:El soporte de muestra de cerámica φ8 mm x 2 mm proporciona una distribución térmica uniforme, minimizando los gradientes de temperatura en toda la muestra para mediciones confiables.
• Se aplicará el método de comprobación de la resistencia de los conductores.El control PID de precisión mantiene una estabilidad excepcional en el punto de ajuste, crítica para experimentos de larga duración y recopilación de datos reproducibles.
• Control del software TNEX:Los perfiles de temperatura programables con monitoreo en tiempo real y registro de datos permiten flujos de trabajo experimentales automatizados.

Aplicaciones

Esta etapa de calentamiento a altas temperaturas es ideal para la investigación en ciencias de los materiales, el análisis de muestras geológicas, los estudios de diagramas de fase metalúrgicos y la caracterización térmica de semiconductores.El ambiente al vacío lo hace particularmente valioso para estudiar muestras sensibles a la oxidación, incluidas las aleaciones de titanio, materiales a base de zirconio y compuestos avanzados.

Paquete completo del sistema

Cada sistema incluye la etapa de calentamiento H1500V-RG, un controlador de temperatura de precisión, un enfriador de recirculación, el software TNEX y todos los cables y tubos necesarios para un funcionamiento inmediato.