H1500V-RG Supporto in ceramica per camera a vuoto con fase di riscaldamento del microscopio ad altissima temperatura da 1500 °C per spettroscopia Raman

Dettagli:
Luogo di origine: Cina
Marca: GoGo
Certificazione: ISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018
Numero di modello: H1500V-RG
Termini di pagamento e spedizione:
Quantità di ordine minimo: 1 set
Prezzo: USD 3000-8000 / Set
Imballaggi particolari: Inserto in schiuma antiurto con cartone ondulato per esportazione, disponibile flight case personali
Tempi di consegna: 15-30 giorni lavorativi
Termini di pagamento: T/T, L/C, PayPal, Western Union
Capacità di alimentazione: 50 set al mese
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Informazioni dettagliate

Intervallo di temperatura: RT ~ 1500°C Stabilità della temperatura: ±0,1°C
Velocità di riscaldamento massima: 150°C/min Supporto campione: Ceramica, φ8 mm x 2 mm Tipo da forno
Percorso ottico: Trasmissione (foro di accesso ottico φ5 mm) Ambiente della Camera: Alto vuoto
Materiale della finestra: Vetro di silice fusa JGS2 (220 nm - 2500 nm) Dimensioni: 165 mm x 78 mm x 32 mm
Peso netto: 1,1 kg Software di controllo: Piattaforma TNEX
Evidenziare:

Fase di riscaldamento del microscopio a 1500°C

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fase di riscaldamento della camera a vuoto per Raman

,

fase di riscaldamento del microscopio con supporto in ceramica

Descrizione di prodotto

H1500V-RG 1500°C Ultra-alta temperatura fase di riscaldamento del microscopio

Il GoGoH1500V-RG Fase di riscaldamento del microscopio ad altissima temperaturaIl progetto è stato progettato per ricercatori che richiedono prestazioni termiche estreme nella caratterizzazione in situ dei materiali.1500°C, questo stadio di riscaldamento consente di studiare le transizioni di fase, l'espansione termica e le reazioni ad alta temperatura in ceramiche avanzate, metalli refrattari e materiali semiconduttori.

Caratteristiche chiave per la ricerca sulle temperature ultra elevate

  • 1500°C Temperatura massima:La tecnologia di riscaldamento a resistenza offre un riscaldamento uniforme e costante fino a 1500°C, adatto alle applicazioni di microscopia e spettroscopia ad alta temperatura più esigenti.
  • Integrità della camera a vuoto:L'ambiente a vuoto sigillato impedisce l'ossidazione del campione a temperature estreme, garantendo l'osservazione del comportamento del materiale puro senza interferenze atmosferiche.
  • Contenitore ceramico di tipo forno:Il supporto per campioni in ceramica φ8 mm x 2 mm fornisce una distribuzione termica uniforme, riducendo al minimo i gradienti di temperatura sul campione per misure affidabili.
  • ± 0,1°C Stabilità a temperatura:Il controllo PID di precisione mantiene una stabilità eccezionale al punto di impostazione, fondamentale per esperimenti di lunga durata e raccolta di dati riproducibili.
  • Controllo software TNEX:Profili di temperatura programmabili con monitoraggio in tempo reale e registrazione dei dati consentono flussi di lavoro sperimentali automatizzati.

Applicazioni

Questo stadio di riscaldamento ad altissima temperatura è ideale per la ricerca scientifica dei materiali, l'analisi di campioni geologici, gli studi di diagrammi di fase metallurgici e la caratterizzazione termica dei semiconduttori.L'ambiente vuoto lo rende particolarmente utile per lo studio di campioni sensibili all'ossidazione, comprese le leghe di titanio., materiali a base di zirconio e compositi avanzati.

Sistema completo

Ciascun sistema comprende la fase di riscaldamento H1500V-RG, un regolatore di temperatura di precisione, un refrigeratore a ricircolo, un software TNEX e tutti i cavi e tubi necessari per un funzionamento immediato.

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