คุณเคยสงสัยหรือไม่ว่าวัสดุเปิดเผยพลวัตภายในของมันภายใต้การจ้องมองด้วยกล้องจุลทรรศน์ของกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนเมื่ออุณหภูมิสูงขึ้นได้อย่างไร ตั้งแต่การเปลี่ยนเฟสไปจนถึงการเจริญเติบโตของเมล็ดข้าวและปฏิกิริยาออกซิเดชัน การสังเกตกระบวนการไดนามิกเหล่านี้แบบเรียลไทม์ถือเป็นสิ่งสำคัญสำหรับการทำความเข้าใจคุณสมบัติของวัสดุ Murano™ Heating Stage ของ TESCAN กำลังเปลี่ยนวิสัยทัศน์นี้ให้กลายเป็นความจริง โดยเปิดมิติใหม่ในการวิจัยด้านโลหะวิทยาและวัสดุศาสตร์

การสังเกตการเปลี่ยนแปลงของตัวอย่างโดยตรงระหว่างการให้ความร้อนภายในกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราด (SEM) เป็นกุญแจสำคัญในการเปิดเผยกลไกภายในของวัสดุ ขั้นตอนการทำความร้อน Murano™ ช่วยให้สิ่งนี้เกิดขึ้นได้โดยการแสดงการเปลี่ยนเฟส การตกผลึกซ้ำ การเติบโตของเกรน และกระบวนการออกซิเดชันในระหว่างการให้ความร้อน ช่วยให้นักวิจัย "เห็น" วงจรชีวิตของวัสดุได้ การออกแบบอินเทอร์เฟซแยกความร้อนที่เป็นเอกลักษณ์ช่วยให้ผสานรวมกับขั้นตอนตัวอย่าง SEM มาตรฐานส่วนใหญ่ได้อย่างง่ายดาย เข้ากันได้อย่างสมบูรณ์แบบกับการถ่ายภาพ SEM, การเลี้ยวเบนของอิเล็กตรอนสะท้อนกลับ (EBSD) และการประมวลผลลำไอออนโฟกัส (FIB) สำหรับการวิจัยหลายมิติ

ขั้นตอนการทำความร้อน Murano™ ครอบคลุมอุณหภูมิตั้งแต่อุณหภูมิแวดล้อมจนถึง 950°C ตอบสนองความต้องการด้านการวิจัยวัสดุที่หลากหลาย สำหรับการใช้งานที่เพิ่มขึ้นในการศึกษาการเร่งปฏิกิริยา การรีดักชัน หรือการเกิดออกซิเดชัน จะมีการเสนอระบบฉีดก๊าซที่เป็นอุปกรณ์เสริม การควบคุมก๊าซที่แม่นยำทำได้ผ่านเส้นเลือดฝอยใกล้กับตัวอย่าง โดยสามารถปรับการไหลภายนอกได้ผ่านวาล์วเข็มที่ติดหน้าแปลน เพื่อให้มั่นใจในความปลอดภัยของ SEM เวทีจึงมีฐานระบายความร้อนด้วยน้ำที่มีประสิทธิภาพและเกราะป้องกัน เพื่อปกป้องห้องเพาะเลี้ยงและเครื่องตรวจจับจากอุณหภูมิสูง แต่ละระบบประกอบด้วยเครื่องทำน้ำเย็นที่มีการสั่นสะเทือนต่ำพร้อมสวิตช์การไหลเพื่อความปลอดภัย แหล่งจ่ายไฟ และตัวควบคุมอุณหภูมิที่ใช้พีซีเพื่อการทำงานที่มั่นคงและปลอดภัย

ในระหว่างการวิเคราะห์ SEM ที่อุณหภูมิสูง อิเล็กตรอนความร้อนมักจะรบกวนการสะสมอิเล็กตรอนทุติยภูมิ ซึ่งส่งผลต่อคุณภาพของภาพ Murano™ Heating Stage ผสานรวมการควบคุมอคติบนหน้าแปลนอินเทอร์เฟซเพื่อระงับอิเล็กตรอนความร้อน ในขณะเดียวกันก็เพิ่มประสิทธิภาพการสกัดอิเล็กตรอนทุติยภูมิ ให้ภาพที่คมชัดและมีคุณภาพสูงแม้ในอุณหภูมิที่สูงขึ้น ซึ่งมีความสำคัญอย่างยิ่งต่อการบันทึกการเปลี่ยนแปลงโครงสร้างเล็กน้อย

แท่นทำความร้อนของเวทีใช้การออกแบบแบบสิ้นเปลืองเพื่อให้เปลี่ยนได้ง่าย ซึ่งช่วยเพิ่มประสิทธิภาพการทดลองได้อย่างมาก ซอฟต์แวร์บันทึกข้อมูลจะเชื่อมโยงการประทับเวลากับข้อมูลอุณหภูมิอย่างแม่นยำเพื่อการวิเคราะห์ในภายหลัง เมื่อจับคู่กับระบบควบคุมลำแสงดิจิทัลและระบบสร้างภาพ DigiScan™ ข้อมูลอุณหภูมิสามารถซ้อนทับบนภาพและวิดีโอที่บันทึกไว้ได้โดยตรงผ่านซอฟต์แวร์วิดีโอในแหล่งกำเนิด ช่วยให้เห็นภาพกระบวนการระบายความร้อนอย่างที่ไม่เคยมีมาก่อน

• การทำความร้อนในสถานที่อันทรงพลัง:การทำความร้อน/ความเย็นอย่างรวดเร็ว (>100°C/นาที) ของตัวอย่างขนาดมิลลิเมตร ช่วยให้สามารถระบุลักษณะเฉพาะของวัสดุได้อย่างมีประสิทธิภาพ
• การออกแบบที่กะทัดรัด:รักษามุมเอียงขนาดใหญ่สำหรับการวิเคราะห์ EBSD ในขณะที่อำนวยความสะดวกในการโหลดตัวอย่าง
• ตัวเลือกการฉีดแก๊ส:รองรับการศึกษาปฏิกิริยาของก๊าซอุณหภูมิสูงเฉพาะที่
• การควบคุมอุณหภูมิพีซี:ให้ความแม่นยำ <0.5°C และความเสถียร <1°C/ชั่วโมง เพื่อผลลัพธ์ที่สามารถทำซ้ำได้
• ระบายความร้อนด้วยน้ำ:ปกป้องห้อง SEM ในขณะที่รองรับอุณหภูมิตัวอย่าง 950°C

• การเปลี่ยนเฟสและการระบุอุณหภูมิยูเทคติก
• ลักษณะการเจริญเติบโตของเมล็ดข้าว
• การศึกษาการตกผลึกใหม่ของโครงสร้างการเปลี่ยนรูป
• การวิจัยจลนพลศาสตร์ของปฏิกิริยาแก๊ส
• การวิเคราะห์ความล้มเหลวของเซมิคอนดักเตอร์ที่อุณหภูมิสูง

ขั้นตอนการทำความร้อน Murano™ ช่วยให้สามารถสังเกตตัวอย่างได้อย่างต่อเนื่องตั้งแต่อุณหภูมิเริ่มต้นจนถึงอุณหภูมิสูงสุดภายในการทดลอง SEM ครั้งเดียว ซึ่งช่วยลดความจำเป็นในการเตรียมตัวอย่างหลายอย่าง ขณะเดียวกันก็รับประกันการศึกษาบริเวณที่สนใจอย่างสม่ำเสมอ ซึ่งเป็นความก้าวหน้าในการเปลี่ยนแปลงสำหรับการสำรวจด้านวัสดุศาสตร์