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詳細情報 |
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| 名前: | サーマルステージ | 冷却/加熱方法: | 液体窒素冷却、抵抗加熱 |
|---|---|---|---|
| 温度範囲: | -190℃~400℃ | 温度安定性: | ±0.1℃ |
| 熱する/冷却率: | 最大加熱速度:150℃/min、最大冷却速度:40℃/min | サンプルホルダー: | シルバー ;23mm*23mm |
| 光学道: | 反射・透過(φ2mm光アクセスホール) | 上部ウィンドウのサイズ: | φ20mm×0.3mm/φ25mm×1mm |
| 下部ウィンドウのサイズ: | φ10mm*1mm(透過光オプション) | 窓材: | JGS2 石英ガラス (透過範囲: 220 nm ~ 2500 nm)、手動で取り外しおよび交換可能。 |
| 窓の霜取り: | ガスパージアタッチメント、エアブロー低温霜取り | 窓上面からサンプルホルダー上面までの距離: | 5.1mm |
| チャンバーの高さ: | 4.8mm | チャンバー: | 真空 |
| サンプルの変位: | X/Y軸移動範囲:±6mm、位置決め精度:0.01mm | 顕微鏡のスライド: | φ16mm×0.15mm |
| 寸法: | 86mm*100mm*21.5mm | 正味重量: | 0.7kg/0.8kg |
| 基本構成: | TNEX*1、光学加熱冷却ステージ*1、温度コントローラー*1、冷却コントローラー*1、液体窒素タンク*1、循環チラー*1、ケーブル、チューブ、付属品 | オプション: | アダプタープレート/カスタマイズされた液体窒素タンク/カスタマイズされた再循環チラー/真空システム/コンピュータホスト/カスタマイズされた温度制御ソフトウェア |
| ハイライト: | 温め 冷却段階 −190°Cから400°C,精密熱冷却段階 顕微鏡用,±0.1°Cの安定性のある加熱冷却段階 |
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製品の説明
GoGo CH400V-XY は、正確に制御された熱条件下で高度なその場顕微鏡法および分光法用に設計された最先端の加熱冷却ステージです。 -190°C ~ 400°C の優れた温度範囲と ±0.1°C の優れた安定性を備えたこのシステムは、材料科学、半導体研究、地質科学の最も厳しい要件を満たすように設計されています。
CH400V-XY の特徴は、統合された XY サンプル操作機能です。 ±6mmの移動範囲と0.01mmの位置決め精度により、研究者は熱環境を乱すことなく、顕微鏡下で特定のサンプル領域を正確に再配置できます。これは、異種サンプルのマッピングや単一の実験での複数の介在部位の分析にとって重要な機能です。
比類のない安定性を備えた極端な温度範囲: -190 °C の極低温から 400 °C の高温まで、この加熱冷却ステージは ±0.1 °C の安定性を維持し、動作条件の全範囲にわたって材料の包括的な研究を可能にします。
精密な XY サンプル操作: 統合された XY 移動ステージ (移動距離 ±6 mm、精度 0.01 mm) により、任意の温度で単一サンプルの詳細な空間マッピングと多点分析が可能になります。これは、同じ薄切片内で複数の包有物を分析する必要がある地質流体包有物研究にとって特に価値のある機能です。
最大限の多用途性を実現するデュアル光路: 高品質の JGS2 溶融シリカ窓 (220 ~ 2500 nm の透過範囲) を備えた反射光路と透過光路 (φ2mm アクセス ホール) の両方を備えたこの加熱冷却ステージは、幅広い顕微鏡法および分光法技術をサポートします。
真空および雰囲気制御: 密閉チャンバーは真空環境と制御された雰囲気環境の両方をサポートし、サンプルの酸化を防ぎ、空気に敏感な材料の研究を可能にします。
TNEX ソフトウェアによるインテリジェントな制御: リアルタイムのモニタリングとデータ ロギングを備えた複雑な温度プロファイル (ランプ、ホールド、セグメント) を完全に自動化して、再現性があり、すぐに出版できる結果を実現します。
CH400V-XY 加熱冷却ステージは、現代の地質学的研究、特に流体および溶融包有物の研究において不可欠なツールとなっています。主な用途には次のようなものがあります。
流体含有物マイクロサーモメトリー: 加熱および冷却サイクル中の流体含有物の相変化 (均質化、凍結、融解) をその場で直接観察し、均質化温度、氷の融点、および塩分を決定できます。
溶融包有物の研究: トラップ温度を決定し、マグマの進化プロセスを理解するために、火成鉱物中のケイ酸塩溶融包有物を観察します。
鉱床の研究: 鉱化温度と流体組成を制限するための、熱水鉱物 (石英、蛍石、方解石、閃亜鉛鉱) 内の流体包有物の集合体の特性評価。
石油地質学: 熱履歴と石油/ガスの移動のタイミングを再構築するための炭化水素含有流体の包有物の分析。
古気候の再構築: 定量的な温度の再構築のための石筍中の流体包含物のマイクロサーモメトリー。
| パラメータ | 仕様 |
|---|---|
| モデル/ブランド | CH400V-XY / ゴーゴー |
| 温度範囲 | -190℃~400℃ |
| 温度安定性 | ±0.1℃ |
| 最大加熱速度 | 150℃/分 |
| 最大冷却速度 | 40℃/分 |
| サンプルの操作 | XY移動量: ±6mm;精度: 0.01mm |
| サンプルホルダー | シルバー、23mm x 23mm |
| 光路 | 反射・透過(φ2mm穴) |
| 窓の霜取り | ガスパージアタッチメント |
| チャンバー環境 | 真空・大気 |
| 寸法 / 重量 | 86mm * 100mm * 21.5mm / 0.7-0.8kg |
| 制御ソフトウェア | TNEX プラットフォーム |
この高度な加熱冷却ステージは、東南アジア、中東、ロシア、アフリカなどの主要成長地域の研究機関向けに戦略的に設計されています。大学の地質学および材料科学部門、政府研究機関、国立研究所、地球科学、先端材料、半導体、エネルギー研究に従事するハイテク産業の研究開発センターにサービスを提供しています。
XY サンプル操作が地質学的研究にとって重要なのはなぜですか?
流体包有物の研究では、単一の薄い切片にさまざまな位置に数十個の包有物が含まれる場合があります。 XY ステージを使用すると、研究者はサンプルを再加熱または再冷却することなく封入部位間を正確に移動できるため、時間を大幅に節約し、実験の一貫性を維持できます。
加熱冷却ステージはどのようにして低温時の窓の曇りを防ぐのですか?
このシステムには、窓の内側に乾燥ガス (窒素または空気) を継続的に流し続けるガス パージ アタッチメントが含まれており、光学観察を妨げる霜や結露を効果的に防ぎます。
このステージではどのような測定が可能ですか?
この加熱冷却ステージにより、流体および溶融介在物の均質化温度、凝固点、融解温度、およびその他の相転移温度を測定できます。半導体デバイスのテスト、ポリマーの研究、一般的な材料の特性評価にも適しています。
このシステムはラマン分光法と互換性がありますか?
はい。高透過率の JGS2 ウィンドウ (220 ~ 2500 nm) と安定した熱プラットフォームにより、この加熱冷却ステージはさまざまな温度でのその場ラマン分光法に最適です。
基本構成には何が含まれますか?
このシステムは、加熱/冷却ステージ、温度コントローラー、冷却コントローラー、液体窒素タンク、再循環チラー、TNEX ソフトウェア、および即時操作に必要なすべてのケーブル、チューブ、付属品を含む完全なワークステーションとして提供されます。
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