品質顕微鏡加熱ステージ中国からの製造業者

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H1500V-RG 急速熱顕微鏡ステージ 150°C/min 速度は 1500°C 真空室熱循環用陶器ホルダー
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H1500V-RG ラマン互換顕微鏡熱化段階 1500°C 高真空室 JGS2 光譜検査用シリカ窓
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H1500V-RG 高真空顕微鏡加熱段階 1500°C 酸化のない室金属分析用陶器用ホルダー
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H1500V-RG 精密顕微鏡加熱段階 ±0.1°C 安定性 1500°C 半導体研究用真空PID制御
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H1500V-RG 1500°C 超高温顕微鏡温室真空室ラマンスペクトロピーのセラミックホルダー
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FH5000-1000V 多モード機械試験用超高温真空張力段階 (1000°C,5000N)
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モジュラルのペルティエ顕微鏡ステージ安定度 ±0.1°C 温度 30°C/分温度/冷却率精密な熱分析
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-190°C～600°Cの範囲、±0.1°Cの安定性、および正確な熱分析のための150°C/分の加熱速度を備えた加熱冷却顕微鏡ステージ
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CH400V-XY 加熱冷却段階 - -190°Cから400°C範囲, ±0.1°C安定性およびXY ±6mm顕微鏡用精度
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主要なXRDブランドのための -190°Cから400°Cの温度範囲と0°から164°の2θ difrction AngleのユニバーサルXRDサンプルステージ
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パルティエ顕微鏡ステージ,真空密閉室, ±0.1°Cの安定性, 30°C/minの加熱/冷却速度
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高精度プローブステージ幅広い温度範囲 (−190°C~400°C) 統合電気・熱分析
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FH5000-1000V 多モード機械試験用超高温真空張力段階 (1000°C,5000N)
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モジュラルのペルティエ顕微鏡ステージ安定度 ±0.1°C 温度 30°C/分温度/冷却率精密な熱分析
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熱化冷却段階 −190°Cから600°Cの範囲, ±0.1°Cの安定性,精密な熱分析のために150°C/minの加熱速度
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H1500V-RG 精密顕微鏡加熱段階 ±0.1°C 安定性 1500°C 半導体研究用真空PID制御

H1500V-RG 1500°C 超高温顕微鏡温室真空室ラマンスペクトロピーのセラミックホルダー

FH5000-1000V 多モード機械試験用超高温真空張力段階 (1000°C,5000N)

モジュラルのペルティエ顕微鏡ステージ安定度 ±0.1°C 温度 30°C/分温度/冷却率精密な熱分析

-190°C～600°Cの範囲、±0.1°Cの安定性、および正確な熱分析のための150°C/分の加熱速度を備えた加熱冷却顕微鏡ステージ

CH400V-XY 加熱冷却段階 - -190°Cから400°C範囲, ±0.1°C安定性およびXY ±6mm顕微鏡用精度

主要なXRDブランドのための -190°Cから400°Cの温度範囲と0°から164°の2θ difrction AngleのユニバーサルXRDサンプルステージ

パルティエ顕微鏡ステージ,真空密閉室, ±0.1°Cの安定性, 30°C/minの加熱/冷却速度

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FH5000-1000V 多モード機械試験用超高温真空張力段階 (1000°C,5000N)

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熱化冷却段階 −190°Cから600°Cの範囲, ±0.1°Cの安定性,精密な熱分析のために150°C/minの加熱速度

測定の精度温度のグローバル

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モジュラルのペルティエ顕微鏡ステージ 安定度 ±0.1°C 温度 30°C/分 温度/冷却率 精密な熱分析

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モジュラルのペルティエ顕微鏡ステージ 安定度 ±0.1°C 温度 30°C/分 温度/冷却率 精密な熱分析

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