Stadio di riscaldamento e raffreddamento a temperatura estrema Ampio intervallo da -190°C a 600°C Stabilità ±0,1°C Ricerca sui materiali

Il GoGo CH600-HTS Extreme Temperature Heating Cooling Stage rappresenta l'apice degli strumenti di microscopia termica.fornendo una durata operativa da -190°C a 600°C senza compromessi all'interno di un'unica piattaforma compattaQuesta fase di riscaldamento e raffreddamento elimina il tradizionale compromesso di laboratorio di mantenere stadi criogenici e ad alta temperatura separati.offrire ai ricercatori una soluzione unificata per l'intero spettro di esigenze di analisi termica. progettato per laboratori che conducono caratterizzazione di materiali avanzati,il CH600-HTS eccelle in applicazioni che vanno dagli studi di transizione di fase criogenica all'osservazione del comportamento di ossidazione ad alta temperatura nei metalli, ceramiche e materiali semiconduttori.

Con una straordinaria finestra termica di 790°C,Questo stadio di raffreddamento per riscaldamento consente una transizione fluida tra raffreddamento subambiente e riscaldamento elevato senza trasferimento di campioni o riconfigurazione dello strumentoIl sistema integrato di raffreddamento dell'azoto liquido consente di raggiungere temperature stabili fino a -190°C.mentre l'elemento di riscaldamento resistivo ad alte prestazioni spinge le temperature a 600°C ad una velocità leader del settore di 150°C al minutoQuesta capacità accelera drasticamente i flussi di lavoro sperimentali.consentire ai ricercatori di completare i protocolli di caratterizzazione termica a gamma completa in una frazione del tempo richiesto dai sistemi convenzionali.

Ogni componente del CH600-HTS è stato appositamente progettato per l'affidabilità ad alta temperatura.mentre le finestre di osservazione della silice fusa JGS2 mantengono la chiarezza ottica da 220 nm a 2500 nm, supportando contemporaneamente modalità di imaging ultraviolette, visibili e infrarossi.La progettazione della camera compatibile con il vuoto impedisce l'ossidazione del campione durante gli esperimenti ad alta temperatura e consente studi di atmosfera controllati se abbinati a sistemi di ingresso di gas opzionali.

• 790°C Total termic span:Funzionamento ininterrotto dal raffreddamento criogenico a -190 °C al riscaldamento ad alta temperatura a 600 °C in una singola piattaforma di raffreddamento a riscaldamento, eliminando la necessità di più strumenti specializzati.
• 150°C/min. Tasso di riscaldamento massimo:La velocità di rampa leader nel settore consente uno screening termico rapido e riduce significativamente i tempi di ciclo di sperimentazione per i laboratori di caratterizzazione dei materiali ad alto rendimento.
• Accesso ottico multispectral:Le finestre a silice fuso JGS2 forniscono trasmissione a banda larga da 220 nm a 2500 nm, supportando contemporaneamente la fluorescenza UV, la microscopia visibile e l'imaging termico IR.
• Camera compatibile con il vuoto:La camera di campionamento sigillata ermeticamente supporta il funzionamento a vuoto fino a 10 mA, impedendo l'ossidazione e consentendo esperimenti in atmosfera controllata a temperature elevate.
• Piattaforma di controllo intelligente TNEX:Profili termici programmabili in più passaggi con registrazione della temperatura in tempo reale, sincronizzazione video e protocolli automatici di rampa-to-hold per condizioni sperimentali riproducibili.
• Disegno compatto orientamento flessibile:Con soli 86 mm × 100 mm × 21,5 mm e 0,5 kg, il palco si monta orizzontalmente su microscopi standard o verticalmente in configurazioni Raman, FTIR e sincrotron.

La stazione di raffreddamento termico CH600-HTS è appositamente progettata per laboratori di ricerca e dipartimenti di controllo della qualità industriale che richiedono prestazioni termiche estreme.permette l'osservazione in tempo reale delle trasformazioni di fase, migrazione dei grani e fenomeni di ricristallizzazione in tutto lo spettro termico.I laboratori di analisi dei guasti dei semiconduttori utilizzano lo stadio per la prova dello stress termico e l'identificazione dei punti caldi nei circuiti integrati e nei dispositivi di alimentazioneI ricercatori di ceramica beneficiano della capacità di alta temperatura per studi di sinterizzazione e misurazioni dei coefficienti di espansione termica.Il suo design compatibile con il vuoto lo rende particolarmente utile per materiali sensibili all'ossidazione, comprese le leghe avanzate, le pellicole sottili e i materiali compositi.o un centro di ricerca e sviluppo industriale, il CH600-HTS offre le prestazioni termiche e la chiarezza ottica richieste dalle applicazioni più esigenti.

Ogni stadio di raffreddamento termico CH600-HTS è fabbricato secondo i sistemi di gestione della qualità certificati ISO 9001, ISO 14001 e ISO 45001.ogni unità è sottoposta a un protocollo di taratura completo di 24 punti, compresa la mappatura dell'uniformità della temperaturaIl sistema completo è confezionato in una custodia di volo in lega di alluminio con inserti di schiuma tagliati con precisione,imballaggi di essiccanti sigillati al vuoto per la protezione dall'umidità, e una cassa esterna in legno di qualità per l'esportazione dotata di indicatori di urto e inclinazione.serbatoio di azoto liquido, frigorifero a ricircolo, licenza software TNEX e tutti i cavi e tubi di interconnessione necessari.serbatoi di azoto liquido di capacità estesaLa garanzia standard copre 12 mesi con piani di estensione opzionali e supporto tecnico prioritario disponibile.