H1500V-RG Mikroskop mit schneller Erwärmung Stufe 150°C/min Rate 1500°C Vakuumkammer Keramikhalter für den Wärmezyklus

Produkt-Beschreibung

H1500V-RG Mikroskop mit schneller Erwärmung Erwärmungsstufe mit 150°C/min

Die GoGoH1500V-RG Mikroskop mit schneller Erwärmung Erwärmungsstufeist für Laboratorien ausgelegt, in denen der Versuchsdurchsatz und die Zeit bis zum Ergebnis von entscheidender Bedeutung sind.150°C/min, erreicht diese Stufe in etwa 10 Minuten 1500°C von der Raumtemperatur auf, wesentlich schneller als herkömmliche Heizstufen, die für denselben Temperaturbereich 30-60 Minuten benötigen.

Geschwindigkeit ohne Kompromisse

Die H1500V-RG kombiniert eine schnelle thermische Aufwärmung mit:

• 150°C/min Höchstgeschwindigkeit der Rampe:Minimierung der thermischen Verzögerung zwischen den Veränderungen des Setpoints, wodurch eine quasi-Echtzeitbeobachtung schneller thermischer Prozesse einschließlich Kristallisation, Phasentrennung und Zersetzung ermöglicht wird.
• Steuerbare Kühlung:Der integrierte Kreislaufkühler sorgt für eine aktive, geschwindigkeitsgesteuerte Kühlung für Thermische Zyklusversuche.Simmetrische oder asymmetrische Heiz-Kühlprofile zum Simulieren von thermischen Verarbeitungsbedingungen in der realen Welt programmieren.
• ±0,1°C Setpunkt Stabilität:Nach Erreichen der Zieltemperatur wird das PID-Steuerungssystem mit außergewöhnlicher Präzision für isotherme Haltegegmente eingeschaltet.
• TNEX mehrstufige Programmierung:Entwerfen Sie komplexe Wärmeprofile mit benutzerdefinierten Rampenraten, Aufenthaltszeiten und Zyklenzahlen.

Effizienzsteigerungen für Labore mit hohem Durchsatz

Durch die Verringerung der Erhitzungsphase von mehr als 30 Minuten auf weniger als 10 Minuten ermöglicht der H1500V-RG den Forschern, täglich 2-3* mehr Versuchsläufe durchzuführen.Dies ist besonders für Anwendungen der Qualitätskontrolle von Bedeutung., kombinierte Materialien und Lehrlaboratorien, in denen die Zeit für Instrumente zwischen mehreren Benutzern geteilt wird.

Anwendungen für schnelle thermische Studien

Ideal für Sinterkinetikstudien, thermische Schockprüfungen, schnelle thermische Aufheizung dünner Folien, Katalysatoraktivierung-Deaktivierung und Polymerzerfallsanalyse.Die Vakuumkammer sorgt für eine oxidierungsfreie schnelle Erwärmung empfindlicher Metall- und Halbleiterproben.